[发明专利]具有暗化光瞳的大孔径物镜有效
申请号: | 200910252633.0 | 申请日: | 2005-12-22 |
公开(公告)号: | CN101713864A | 公开(公告)日: | 2010-05-26 |
发明(设计)人: | 汉斯-于尔根·曼;戴维·谢弗;威廉·乌尔里希 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT股份公司 |
主分类号: | G02B17/06 | 分类号: | G02B17/06 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邱军 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 暗化光瞳 孔径 物镜 | ||
1.一种用于波长≤193nm的微光刻投影物镜,其包括:物面(10); 像面(20);第一局部镜体组(300.1),至少具有第一镜体和 第二镜体;并且第二局部镜体组(200.1),至少具有第三镜体 (1020)和第四镜体(1030),其中所述投影物镜的过渡图像 (22)在所述第一局部镜体组(300.1)的第一镜体(1000) 和所述第二局部镜体组(200.1)的第四镜体(1030)之间的 光路中形成,其中所述第三镜体(1020)在从所述物面(10) 到所述像面(20)的光路中是倒数第二个镜体,并且所述第三 镜体是凹面镜,所述第四镜体是凹面镜,所述第一镜体、所述 第二镜体、所述第三镜体和所述第四镜体具有开口,所述第一 镜体具有第一镜体直径d2,所述第四镜体(1030)具有第二 镜体直径d1,所述过渡图像具有到所述第四镜体的第一表面 的第一距离z1,光线射到所述第一表面上,以及具有到所述第 一镜体的表面的第二距离Z2,光线射到第一镜体的表面上,并 且所述过渡图像的位置符合以下关系式:
2.根据权利要求1所述的微光刻投影物镜,其中所述微光刻投影 物镜用于≤100nm的波长。
3.一种用于波长≤193nm的微光刻投影物镜,其包括:第一局部 镜体组(300.1),至少具有第一镜体和第二镜体;并且第二局 部镜体组(200.1),至少具有第三镜体(1020)和第四镜体 (1030),其中所述第一镜体(1000)的镜表面和所述第四镜 体(1030)的镜表面形成双面镜,所述第三镜体和所述第四镜 体是凹面镜且具有开口。
4.根据权利要求3所述的微光刻投影物镜,其中所述微光刻投影 物镜用于≤100nm的波长。
5.根据权利要求3所述的微光刻投影物镜,其中,所述双面镜具 有开口。
6.根据权利要求4所述的微光刻投影物镜,其中,所述开口是通 孔。
7.根据权利要求6所述的微光刻投影物镜,其中,所述通孔是圆 锥形的。
8.根据权利要求5-7中任一项所述微光刻投影物镜,其中,所述 投影物镜的过渡图像(22)在所述第一局部镜体组(300.1) 的第一镜体(1000)和所述第二局部镜体组(200.1)的第四 镜体(1030)之间的光路中形成,其中,所述过渡图像(22) 形成于所述开口中或接近所述开口。
9.根据权利要求1-7中任一项所述微光刻投影物镜,还包括第三 局部镜体组,所述第三局部镜体组包括没有开口的六个镜体 (S1-S6)。
10.根据权利要求9所述微光刻投影物镜,其中,所述微光刻投影 物镜具有设置在所述第三局部镜体组的孔径光阑。
11.根据权利要求1-7中任一项所述微光刻投影物镜,其中,所述 微光刻投影物镜具有设置在所述第一局部镜体组的孔径光阑。
12.根据权利要求11所述微光刻投影物镜,其中,所述孔径光阑 设置在第三镜体上或接近第三镜体。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡尔蔡司SMT股份公司,未经卡尔蔡司SMT股份公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910252633.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。