[发明专利]用于光刻的组合物和方法

权利要求书

1.一种用来处理光刻胶组合物的方法，所述方法包括：

(a)在基材上施涂包含以下组分的光刻胶组合物：

(i)含有光酸不稳定基团的一种或多种树脂，

(ii)光活性组分，和

(iii)含有光酸不稳定基团并与所述一种或多种树脂不同的一种或多种材料；

其中，所述一种或多种材料的光酸不稳定基团的去保护活化能与所述一种或多种树脂的光酸不稳定基团的去保护活化能基本相同或低于后者；以及

(b)使光刻胶层浸没式曝光于能够使该光刻胶组合物活化的辐射。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述一种或多种材料与所述一种或多种树脂是基本上不可混合的。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述一种或多种材料的光酸不稳定基团的去保护活化能比所述一种或多种树脂的光酸不稳定基团的去保护活化能低。

4.如权利要求1-3中任意一项所述的方法，其特征在于，所述一种或多种树脂包含是酯基的光酸不稳定基团且不含缩醛光酸不稳定基团，并且所述一种或多种材料含有是缩醛基的光酸不稳定基团。

5.如权利要求1-3中任意一项所述的方法，其特征在于，与所述一种或多种树脂的光酸不稳定基团相比，所述一种或多种材料含有的光酸不稳定基团具有更高的碳链支化。

6.一种用来处理光刻胶组合物的方法，所述方法包括：

(a)在基材上施涂包含以下组分的光刻胶组合物：

(i)一种或多种树脂，

(ii)光活性组分，和

(iii)包含足够量的酸性基团以提供至少一埃每秒的暗场(dark field)溶解速率的一种或多种材料；和

(b)使光刻胶层浸没式曝光于能够使该光刻胶组合物活化的辐射。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述一种或多种材料包含一种或多种选自氟化醇、磺酰胺、杂取代的碳环芳基和羧基的酸性基团。

8.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述一种或多种材料包含一种或多种选自(CF₃)₂C(OH)-、羟基萘酚和-COOH的酸性基团。

9.如权利要求6-8中任意一项所述的方法，其特征在于，所述一种或多种材料包含足够量的酸性基团以提供至少二、三、四或五埃每秒的暗场溶解速率。

10.如权利要求6-9中任意一项所述的方法，其特征在于，所述一种或多种材料与所述一种或多种树脂是基本上不可混合的。

11.如权利要求1-10中任意一项所述的方法，其特征在于，所述一种或多种材料是树脂。

12.一种涂敷的基材体系，所述体系包括：

在其上具有以下物质的基材：

光刻胶组合物的涂层，所述光刻胶组合物包含：

(i)含有光酸不稳定基团的一种或多种树脂，

(ii)光活性组分，和

(iii)含有光酸不稳定基团并与所述一种或多种树脂不同的一种或多种材料；

其中，所述一种或多种材料的光酸不稳定基团的去保护活化能与所述一种或多种树脂的光酸不稳定基团的去保护活化能基本相同或低于后者。

13.一种涂敷的基材体系，所述体系包括：

在其上具有以下物质的基材：

光刻胶组合物的涂层，所述光刻胶组合物包含：

(i)一种或多种树脂，

(ii)光活性组分，和

(iii)包含足够量的酸性基团以提供至少一埃每秒的暗场溶解速率的一种或多种材料。

14.如权利要求12或13所述的体系，其特征在于，浸没光刻液与所述光刻胶涂层的顶面接触。

15.如权利要求13-14中任意一项所述的体系，进一步包含浸没光刻胶曝光工具。

16.一种光刻胶组合物，所述组合物包含：

(i)含有光酸不稳定基团的一种或多种树脂，

(ii)光活性组分，和

(iii)含有光酸不稳定基团并与所述一种或多种树脂不同的一种或多种材料；

其中，所述一种或多种材料的光酸不稳定基团的去保护活化能与所述一种或多种树脂的光酸不稳定基团的去保护活化能基本相同或低于后者。

17.一种光刻胶组合物，包含：

(i)一种或多种树脂，

(ii)光活性组分，和

(iii)包含足够量的酸性基团以提供至少一埃每秒的暗场溶解速率的一种或多种材料。