[发明专利]含薁类结构水溶性菁染料及其合成方法

权利要求书

1.一种含薁类结构水溶性菁染料，其特征在于，具有如下结构通式：

其中，R¹为H、烷基、烷氧基或卤素中的一种；

R²为-(CH₂)_m CH₂L，m为0～10，L为磺酸基、羧基；R³或R⁴分别为H、烷基、甲氧基、卤素、磺酸基、羧基中的一种或R³R⁴＝(CH＝CH)₂。

2.如权利要求1所述的含薁类结构水溶性菁染料，其特征在于：所述R¹为C_1～8的烷基。

3.如权利要求2所述的含薁类结构水溶性菁染料，其特征在于：所述R²为-(CH₂)_m CH₂L，m为0～4，L为磺酸基、羧基；所述R³或R⁴分别为甲基、乙基、磺酸基、羧基中的一种或R³R⁴＝(CH＝CH)₂。

4.如权利要求1～3之任一所述含薁类结构水溶性菁染料的合成方法，其特征在于，按如下步骤实施：在缩合剂作用下，1，3-二甲酰基薁类衍生物与取代的1-烷基-2，3，3-三甲基吲哚盐进行缩合，从反应混合物中得到含薁类结构的菁染料，通过纯化精制得到目的产物。 

5.如权利要求4所述含薁类结构水溶性菁染料的合成方法，其特征在于：所述1，3-二甲酰基薁类衍生物与1-烷基-2，3，3-三甲基吲哚盐的摩尔比为1∶2～4。

6.如权利要求5所述含薁类结构水溶性菁染料的合成方法，其特征在于：所述缩合剂为醋酐、吡啶或乙酸钠。

7.如权利要求6所述含薁类结构水溶性菁染料的合成方法，其特征在于：反应溶剂为醋酐、正丁醇、苯或它们的混合物。