[发明专利]滤色片及其制造方法以及液晶显示装置有效

专利信息
申请号: 200910246388.2 申请日: 2009-11-27
公开(公告)号: CN101750655A 公开(公告)日: 2010-06-23
发明(设计)人: 藤本进二;池田秀夫;吉本洋 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;G02F1/1335;C23C14/34;C23C14/08
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 朱丹
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 滤色片 及其 制造 方法 以及 液晶 显示装置
【权利要求书】:

1.一种滤色片,其具有基板、着色层以及透明导电膜,其特征在于,

在基板上从该基板侧依次具有至少1种颜色的着色层和表面粗糙度 Ra为0.5nm以上、2.5nm以下且微晶的平均短径为15nm以上、35nm以 下的透明导电膜。

2.根据权利要求1所述的滤色片,其中,

所述透明导电膜的表面电阻为5Ω/□以上、30Ω/□以下。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的滤色片,其中,

所述透明导电膜含有氧化铟锡。

4.滤色片的制造方法,所述方法为具有基板、着色层以及透明导电膜 的滤色片的制造方法,其特征在于,包括如下工序:

着色层形成工序,在基板上形成至少1种颜色的着色层;以及

透明导电膜形成工序,在所述至少1种颜色的着色层上,至少通过在 基板温度为100℃以上、160℃以下的条件下进行的第1溅射和在所述第1 溅射之后在基板温度为180℃以上、240℃以下的条件下进行的第2溅射, 形成表面粗糙度Ra为0.5nm以上、2.5nm以下且微晶的平均短径为15nm 以上、35nm以下的透明导电膜。

5.根据权利要求4所述的滤色片的制造方法,其中,

所述第1溅射在流量比即氧流量/氩流量为0.04以上、0.15以下的条 件下进行。

6.根据权利要求4或权利要求5所述滤色片的制造方法,其中,

所述第2溅射的流量比即氧流量/氩流量比所述第1溅射的流量比即氧 流量/氩流量小。

7.根据权利要求4或权利要求5所述的滤色片的制造方法,其中,

所述透明导电膜的表面电阻为5Ω/□以上、30Ω/□以下。

8.根据权利要求4或权利要求5所述的滤色片的制造方法,其中,

所述透明导电膜含有氧化铟锡。

9.根据权利要求4或权利要求5所述的滤色片的制造方法,其中,

所述透明导电膜形成工序前的形成了所述着色层的基板的对比度为 5000以上。

10.根据权利要求4或权利要求5所述的滤色片的制造方法,其中,

所述着色层形成工序使用下述的着色感光性树脂组合物形成所述至 少1种颜色的着色层,所述着色感光性树脂组合物含有(a)颜料、(b) 颜料分散剂、(c)粘合剂树脂、(d)光聚合性单体、(e)光聚合引发剂、 (f)溶剂、(g)氟系表面活性剂和(h)不同于所述(g)的在分子中含有 聚(氧乙烯)基和氮原子的非离子型表面活性剂。

11.一种液晶显示装置,其具有权利要求1或权利要求2所述的滤色片 或采用权利要求4或权利要求5所述的滤色片的制造方法制造的滤色片。

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