[发明专利]一种基于边缘检测的伪彩抑制装置和方法无效
| 申请号： | 200910242017.7 | 申请日： | 2009-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN101742052A | 公开（公告）日： | 2010-06-16 |
| 发明（设计）人： | 卢晓鹏 | 申请（专利权）人： | 北京中星微电子有限公司 |
| 主分类号： | H04N1/56 | 分类号： | H04N1/56;H04N1/60;H04N1/58 |
| 代理公司： | 北京天悦专利代理事务所 11311 | 代理人： | 田明;任晓航 |
| 地址： | 100083 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 边缘 检测 抑制 装置 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种基于边缘检测的伪彩抑制装置，其特征在于：该装置包括一个色度和亮度分离单元，用于实现色度和亮度的分离；一个亮度处理单元，用于对分离后的亮度信号执行处理；一个伪彩抑制单元，用于对分离后的色度值通过高斯滤波来进行伪彩抑制。
2.如权利要求1所述的基于边缘检测的伪彩抑制装置，其特征在于：所述伪彩抑制单元包括一个边缘检测单元，用于求取图像的边缘；
和一个膨胀处理单元，用于对检测所得到的边缘执行膨胀处理；
以及一个高斯平滑处理单元，用于对色度值进行滤波而抑制伪彩。
3.如权利要求2所述的基于边缘检测的伪彩抑制装置，其特征在于：所述边缘检测单元采用的sobel算子为
利用上述算子计算得到各像素的水平边缘值EH和垂直边缘值EV，并计算出边缘强度EI：
设置一阈值Th1以及一掩膜，如果边缘强度EI＞Th1，则将该像素对应的掩膜值设置为1，否则将掩膜值设置为0；
所述膨胀处理单元执行的膨胀处理为dilation(I，B)＝{a+b|a∈I，b∈B}，其中，I为待膨胀图像，B为膨胀掩模算子。
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