[发明专利]真空镀膜设备

说明书

技术领域

本发明涉及微电子技术领域，特别涉及一种真空镀膜设备。

背景技术

真空镀膜是指在真空室内，在一定的压力、温度和反应物状态等条件下，通过化学、物理等方法将生成物沉积到目标物上的技术。真空镀膜的方法有很多种，比如：真空蒸镀、化学气相沉积、物理气相沉积等。

请参考图1，图1为现有技术中第一种典型的真空镀膜设备的结构示意图。

真空镀膜设备包括进气阀门11、密闭的真空腔体12、压力传感器13、压力控制阀14、截止阀15、真空泵16以及管路等；其中，真空泵16主要用于抽出真空腔体12中的气体，使真空腔体12的内部形成真空；压力传感器13主要用于测量真空腔体12中的压力，以便对真空腔体12的压力进行控制；截止阀15主要用于断开或者连接真空腔体12和真空泵16；压力控制阀14主要用于改变真空腔体12内部的压力，压力控制阀14的种类很多，主要有蝶阀、摆阀和针阀等，它可以通过改变气流流通的截面面积，增大或者减小气流的流通阻力，进而改变气体的流量，实现真空腔体12内的压力的改变。

在加工过程中，工艺气体经过进气阀门11进入真空腔体12，在真空腔体12内向目标物上进行沉积，同时，压力传感器13随时检测真空腔体12内的压力，如果压力过大，真空泵16将对其进行抽真空，使部分工艺气体经过压力控制阀14和截止阀15被抽走，在此过程中，压力控制阀14可以通过控制工艺气体的流量控制真空腔室12内的气体的压力。为描述方便，我们将压力控制阀14、截止阀15以及真空泵16整体称为压力调节部件。

当工艺气体在真空泵16的作用下流经压力调节部件时，对其也有沉积作用，而沉积物会影响这些部件的工作性能，尤其会对压力控制阀14的性能产生影响，导致出现阀门泄漏、压力控制不稳定等情况，因此，通常需要定期处理真空镀膜设备的沉积物，以保证其正常工作。

为了减少沉积物在压力调节部件及其连接管路上的沉积，现有技术中，对上述真空镀膜设备进行了改进。

请参考图2，图2为现有技术中第二种典型的真空镀膜设备的结构示意图。

与第一种真空镀膜设备相比，第二种真空镀膜设备还包括滤网17，且滤网17连接于真空腔室12和压力控制阀14之间，对流过的工艺气体进行过滤，从而可以滤掉尺寸超过滤网17的孔径的颗粒，减少气体在压力调节部件及其连接管路上的沉积。

然而，滤网17的孔径大小直接影响着过滤效果：当滤网17的孔径较小时，过滤的作用好，但是滤网17很容易发生堵塞，经常需要进行清理和维护，由于滤网17的孔径小，清理和维护过程的困难较大；当滤网17的孔径较大时，过滤作用又较差，难以满足需要。

因此，如何在有效地减少沉积物颗粒沉积于压力调节部件及其连接管路上的基础上，降低沉积装置的清理和维护难度是本领域技术人员目前需要解决的技术问题。

发明内容

本发明的目的是提供一种真空镀膜设备，该真空镀膜设备能够在有效地减少沉积物颗粒沉积于压力调节部件及其连接管路上的基础上，降低沉积装置的清理和维护难度。

为解决上述技术问题，本发明提供一种真空镀膜设备，包括真空腔体和用于控制真空腔体内部压力的压力调节部件，所述真空腔体和所述压力调节部件之间连接有沉积装置，所述沉积装置包括沉积腔体和位于所述沉积腔体内的阻隔部件，所述阻隔部件与所述沉积腔体的侧壁形成弯曲的气流通道。

进一步，所述阻隔部件为隔板，且所述隔板上相对的两端中的第一端安装于所述沉积腔体的侧壁，第二端距离所述沉积腔体的侧壁适当距离。

进一步，所述隔板包括第一隔板和第二隔板，所述侧壁包括相对设置的第一侧壁和第二侧壁；所述第一隔板的第一端安装于所述第一侧壁，其第二端距离所述第二侧壁适当距离；所述第二隔板的第一端安装于所述第二侧壁，其第二端距离所述第一侧壁适当距离。

进一步，所述第一隔板的数目和所述第二隔板的数目均为多个，且二者沿所述气体的流通方向间隔设置。

进一步，所述第一侧壁和所述第二侧壁分体设置。

进一步，所述隔板具有平面结构或者弧面结构。

进一步，所述沉积装置还包括收集腔，所述收集腔安装于所述沉积腔体的下方，且所述收集腔的顶壁与所述沉积腔体的底壁相通。

进一步，所述收集腔的侧壁设置有观察窗。

进一步，所述收集腔的侧壁设置有排出口。

进一步，所述沉积装置还包括温度调节部件，用于改变所述沉积腔体的温度。

进一步，所述温度调节部件为水管，所述水管绕于所述沉积腔体的外侧。

进一步，所述沉积装置还包括振动部件，用于使所述沉积腔体振动。