[发明专利]一种整体式的点样针清洗装置

说明书

技术领域

本发明涉及微阵列芯片制备技术中的点样针清洗设备领域，尤其涉及一种整体式的点样针清洗装置。

背景技术

在微阵列芯片制备过程中，点样针需要依次蘸取多种样品，在基片上点印样点，最终形成微阵列。为避免样品之间的交叉污染，点样针在蘸取新样品之前，需清洗针尖附近的蘸样区域。因此，清洗的质量与效率在很大程度上制约了微阵列芯片的制备质量和制备效率。

目前，大多数微阵列芯片制备操作采用三段式的点样针清洗方法，即：首先，利用“空化效应”对点样针进行超声清洗，将残余样品的大分子分解；然后，用蒸馏水或去离子水冲洗点样针；最后，风干或烘干点样针。

通过对已有专利的调研发现：大多数微阵列芯片制备系统中的点样针清洗装置一般采用已有的分离部件组成，即将小型超声清洗器、小型冲洗装置和小型风干装置同时安装在点样机械手工作区域。这种方式存在以下不足：

1、占用点样机械手工作区域面积大：相对于点样针清洗所需，已有的分离部件体积过大。在点样机械手工作区域一定时，必然需要相应缩小基片数量，从而降低微阵列芯片的制备效率；

2、点样针清洗质量差：各分离部件并非针对点样针清洗这一特殊需求而设计，因此，无法使清洗质量达到最佳；

3、点样机械手运动路径长：在点样针清洗过程中，由点样机械手带动点样针到达各分离部件所在位置进行操作。为适应各分离部件的安装位置，点样机械手需要较长的运动路径，从而降低清洗效率。

发明内容

本发明为克服现有点样针清洗设备技术上的不足，提供一种整体式的点样针清洗装置。

本发明采用如下技术方案：

在支撑体上依次加工用于安装超声清洗槽的通孔、用于冲洗的冲洗槽、用于形成负压的风干槽，支撑体上方安装支撑体盖板，支撑体盖板上与风干槽配合部分开有与点样针阵列相对应的通孔；所述超声清洗槽安装在支撑体用于安装超声清洗槽的通孔内，超声清洗槽下端与换能器连接，用来引起超声清洗槽内清洗液发生空化，达到分解点样针上附着大分子的目的；冲洗槽由其中部的隔板划分为储水池和排水池两部分，排水池和储水池的底部分别设置排水接头和进水接头；排水接头通过管道与废水容器连接，进水接头通过管道及蠕动泵与净水容器连接；蠕动泵驱动净水容器内的水进入冲洗槽，清洗点样针，而后排入废水容器；风干槽底部设置抽气接头，并与真空泵连接，真空泵在风干槽内产生负压，外界空气快速通过点样针与通孔之间缝隙，干燥点样针。

所述超声清洗槽、冲洗槽、风干槽的横向对称线重合，且紧密排列，使得点样针在清洗过程中，点样机械手运行路径最短。

所述冲洗槽中部的隔板的高度低于冲洗槽的深度，从而保证储水池内液面稳定。

所述进水接头的内径小于排水接头的内径，保证水不会溢出冲洗槽。

所述支撑体盖板上与风干槽配合部分的通孔设计为圆形通孔阵列，阵列排布与点样针阵列相同，圆孔直径大于点样针针尖附近针体直径，这种设计可以得到最大的空气流动速度，提高干燥效率。

本发明的有益效果为：该装置结构简单紧凑，占用工作区域小，点样机械手运动路径短，提高了清洗效率；清洗效果好；成本低、可广泛应用于微阵列芯片制备过程中的点样针清洗操作。

附图说明

图1为本发明一种实施方式的整体式的点样针清洗装置结构示意图；

图2为支撑体的俯视图；

图3为图2中A-A面的剖面示意图；

图4为支撑体盖板的俯视图；

图5为图4中B-B面的剖面示意图。

图中标号：

1-支撑体；2-超声清洗槽；3-支撑体盖板；4-冲洗槽；5-风干槽；6-换能器；

7-排水接头；8-废水容器；9-净水容器；10-蠕动泵；11-进水接头；

12-真空泵；13-抽气接头；14-储水池；15-隔板；16-排水池。

具体实施方式

本发明提出的了一种整体式的点样针清洗装置，下面结合附图说明和具体实施方式对本说明做进一步说明。