[发明专利]一种用于槽式清洗机的补液方法有效
| 申请号： | 200910241460.2 | 申请日： | 2009-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN101722158A | 公开（公告）日： | 2010-06-09 |
| 发明（设计）人： | 闫志瑞;库黎明;索思卓 | 申请（专利权）人： | 北京有色金属研究总院;有研半导体材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 郭佩兰 |
| 地址： | 100088*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 清洗 补液 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于槽式清洗机的补液方法，它适用于硅片清洗流程中含有一组相同化学成分的化学液槽，该化学液槽的数量至少二个，该补液方法包括以下步骤：
(1)、清洗过程中持续向该组化学液槽的最后一个槽中注入新鲜化学液；
(2)、按清洗流程的相反顺序依次把化学液用泵打入到上一个化学液槽中，打入的量与向最后一个槽持续注入的化学液的量相等，同时，排液口以与向最后一个槽持续注入的化学液的量相同的量将第一个槽内的化学液排掉。
2.根据权利要求1所述的用于槽式清洗机的补液方法，其特征在于：对硅片进行清洗采用槽式线性的清洗工艺。
3.根据权利要求书1所述的用于槽式清洗机的补液方法，其特征在于：清洗所使用的化学液为NH4OH/H2O2/H2O。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京有色金属研究总院;有研半导体材料股份有限公司，未经北京有色金属研究总院;有研半导体材料股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910241460.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
