[发明专利]一种高质量的热解BN坩埚及其制备方法

权利要求书

1.本发明涉及一种高质量的热解BN坩埚及其制备方法，其特征在于：先制备得到热解BN基体；然后对制备得到的热解BN基体表面进行处理；再然后在经过表面处理后的热解BN基体上生长制备热解BN坩埚。

2.根据权利要求1所述的高质量的热解BN坩埚，其特征在于热解BN基体的制备方法为：将合适比例的氨气和气态卤化硼引入已加热的炉反应器，在1400-2300℃温度范围内在某基体上进行热解沉积，获得壁厚为0.05-1mm的热解BN基体。

3.根据权利要求1所述的高质量的热解BN坩埚，其特征在于制备热解BN基体所选用的基体可以是石墨、Si₃N₄陶瓷、SiC陶瓷、Al₂O₃陶瓷、ZrO₂陶瓷，以及其它致密耐高温材料。

4.根据权利要求1所述的高质量的热解BN坩埚，其特征在于热解BN基体表面的处理工艺可以选用以下一步或几步：

(1)采用车削、铣削、磨削等机加工方法加工到所需的外形尺寸；

(2)对热解BN基体表面进行机械抛光处理到所需的外形尺寸；

(3)对热解BN基体表面进行化学抛光处理到所需的外形尺寸。

5.根据权利要求1所述的高质量的热解BN坩埚，其特征在于热解BN坩埚的制备方法为：将合适比例的氨气和气态卤化硼引入已加热的炉反应器，在1400-2300℃温度范围内在表面处理后的热解BN基体上进行热解沉积，可以获得壁厚为0.3-5mm的热解BN坩埚。其特征在于该热解BN坩埚的沉积生长方式是同质外延生长。