[发明专利]一种CuInS2纳米晶半导体薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 200910236304.7 申请日: 2009-10-16
公开(公告)号: CN101746715A 公开(公告)日: 2010-06-23
发明(设计)人: 王峰;徐新花;吉静;刘景军 申请(专利权)人: 北京化工大学
主分类号: B82B3/00 分类号: B82B3/00;H01L31/18;C03C17/22;C25D9/04
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 沈波
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 cuins sub 纳米 半导体 薄膜 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于能源材料领域,具体涉及一种用作太阳能电池光吸收层材 料的CuInS2纳米晶半导体薄膜的制备方法。

背景技术

当前,常规化石燃料短缺和生态环境恶化的严重局面,使人类认识到 今后必须逐步改变能源消费结构,大力开发以太阳能为代表的清洁可再生 能源。作为能有效利用太阳能资源的理想光伏器件之一,化合物薄膜太阳 能电池较之已商业化的块状硅基太阳能电池具有耗材少、成本低、选材丰 富、可设计性强、理论光电转化效率高等优点,因此受到广大科技工作者 的青睐,正处于急速的发展中。由于其关键组成部分光吸收层材料的光电 性质在很大程度上决定整个薄膜太阳能电池的光电转换效率,所以对于该 层材料的研发设计尤为重要。近年来,已报道的光吸收层材料有CdTe、CdSe、 PbS、CuInSe2、CuInS2、CuIn(Se,S)2、CuInxGa1-xSe2、Cu(In,Ga)(Se,S)2等化 合物半导体。其中,黄铜矿相结构的CuInS2环境友好,化学稳定性高,光 学吸收系数高达105cm-1,带隙一般在1.4-1.6eV范围内,接近太阳能电 池材料所需的最佳带隙值,并且结构缺陷呈电中性,可以进行本征缺陷自 掺杂而得到N或P不同的导电类型。此外,CuInS2允许成分偏离化学计量比 范围比较宽,即使严重偏离化学计量比依然具有黄铜矿相结构以及相似的 物理化学特性,而且易于选择窗口层材料与其匹配。所有这些优异的综合 特征使黄铜矿相结构的CuInS2成为化合物薄膜太阳能电池最具发展前景的 光吸收层材料。

自20世纪70年代以来,国内外关于CuInS2系列薄膜太阳能电池的研 究方兴未艾。其光电转化效率实验室水平已达到11%,还远低于27-32%的 理论值,因此仍然有较大的空间通过改善CuInS2薄膜的光电性质来提高其 光电转化效率,同时找到适于大面积工业化生产CuInS2薄膜的方法。而要 实现这一目标,就必须从其制备工艺入手。在现有的众多制备方法中(真 空多元共蒸发法、喷雾热解法、雾化化学气相沉积法、射频溅射法、有机 金属化学气相沉积法、离子层气相反应法、电沉积法、硫化法等),研究 较多并且有希望大规模生产的是硫化法,即先在基底上利用溅射或电沉积 技术生成Cu-In预制膜或者某种成分的Cu-In-S预制膜,然后在S或H2S的 高温气氛中对预制膜进行硫化而得到CuInS2薄膜。由于硫化过程中,CuInS2薄膜表面极易析出CuxS二元相,严重影响终端电池的光电性能,因此多采 用氰化钾溶液将其浸蚀掉。然而,出于环境兼容性及制备工艺简单化要求 的考虑,此种硫化法并不适合工业化推广。

基于上述原因,人们又将希望的目光聚焦于一步电沉积法,即利用含 有Cu2+、In3+和S2O32-(或SO32-)的酸性电沉积液在导电基底上一步电沉积 制得CuInS2薄膜,最后为了改善薄膜的结晶性及光电性能,再在惰性气氛 保护条件下对其作退火处理。此法工艺过程简单、成本低廉、适于规模化 生产,且避免使用S或H2S以及氰化钾等有害物质。目前,关于这方面的报 道还很有限,CuInS2薄膜的制备过程存在着以下问题:

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