[发明专利]用于永磁材料的光亮镍电镀技术的添加剂有效
申请号: | 200910235744.0 | 申请日: | 2009-10-13 |
公开(公告)号: | CN102041528A | 公开(公告)日: | 2011-05-04 |
发明(设计)人: | 白晓刚 | 申请(专利权)人: | 北京中科三环高技术股份有限公司;天津三环乐喜新材料有限公司 |
主分类号: | C25D3/14 | 分类号: | C25D3/14 |
代理公司: | 北京乾诚五洲知识产权代理有限责任公司 11042 | 代理人: | 付晓青;杨玉荣 |
地址: | 100190 北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 永磁 材料 光亮 电镀 技术 添加剂 | ||
1.一种用于永磁材料的光亮镍电镀技术的添加剂,其特征在于,所述添加剂包括初级光亮剂、次级光亮剂和辅助添加剂;其中,所述初级光亮剂为含有炔键或磺酰基的化合物,所述磺酰基中硫为正四价或正六价,所述次级光亮剂为吡啶衍生物,所述辅助添加剂为除杂剂和润湿剂。
2.根据权利要求1所述的添加剂,其特征在于,所述初级光亮剂为二苯磺酰基亚胺、或糖精。
3.根据权利要求2所述的添加剂,其特征在于,所述初级光亮剂还选自丙氧基化丙炔醇、乙氧基化丙炔醇、二乙胺基丙基丙炔胺、和丙炔醇与环氧化合物的缩合物中的一种。
4.根据权利要求1所述的添加剂,其特征在于,所述次级光亮剂选自吡啶鎓丙烷磺基硫代甜菜碱、吡啶鎓羟丙烷磺基硫代甜菜碱中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的添加剂,其特征在于,所述除杂剂选自丙炔磺酸钠(PS)、丙烯基磺酸钠、乙烯基磺酸钠中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的添加剂,其特征在于,所述润湿剂为一种低碳链的具有双键结构磺化的低泡阴离子表面活性剂或非离子表面活性剂;其中,所述低泡阴离子表面活性剂为乙基已基硫酸钠,所述非离子表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸酯钠。
7.根据权利要求1~3任一所述的添加剂,其特征在于,所述初级光亮剂的配槽量为3~4ml/L。
8.根据权利要求1或4所述的添加剂,其特征在于,所述次级光亮剂的配槽量为1~2ml/L。
9.根据权利要求1、5或6所述的添加剂,其特征在于,所述除杂剂的添加量为1~3ml/L;所述润湿剂的配槽量为1~4ml/L。
10.根据权利要求1所述的添加剂,其特征在于,所述永磁材料为烧结钕铁硼永磁材料或粘结钕铁硼永磁材料。
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