[发明专利]一种多羟基二苯甲酮合成中去除金属离子的方法无效
| 申请号: | 200910226629.7 | 申请日: | 2009-12-14 |
| 公开(公告)号: | CN101781185A | 公开(公告)日: | 2010-07-21 |
| 发明(设计)人: | 王文茂;陈学勇;汤先赤;汤赫;王文武 | 申请(专利权)人: | 张家界奥威科技有限公司 |
| 主分类号: | C07C49/83 | 分类号: | C07C49/83;C07C45/81 |
| 代理公司: | 张家界市慧诚商标专利事务所 43209 | 代理人: | 高红旺 |
| 地址: | 427000 湖南省张家*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 羟基 二苯甲酮 合成 去除 金属 离子 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种多羟基二苯甲酮合成中去除金属离子方法,采用该方法生产的多羟基二苯甲酮可达到电子级产品要求。
背景技术
2,3,4-三羟基二苯甲酮、2,3,4,4’-四羟基二苯甲酮等多羟基二苯甲酮是一种重要的有机中间体,可用于微电子集成电路工业的光致抗蚀剂和液晶显示光敏剂。
用于微电子工业的多羟基二苯甲酮的金属离子含量要求<100ppb,而国内生产的多羟基二苯甲酮产品的金属离子一般在1000ppb以上,长期以来一直制约我国微电子产业相关领域发展,如何去除产品中微量金属离子,使产品具有更高的纯度以达到微电子工业的指标要求,成为亟待解决的关键技术问题。
发明人经过上百次的反复实验筛选与对比,找到了一种较好的微量金属离子螯合剂,可使产品金属杂质含量降低到100ppb,取得了较好结果,得到了符合电子级要求多羟基二苯甲酮产品。
发明内容
本发明的目在于提供一种简便有效的多羟基二苯甲酮去除金属离子的方法,其简便易行,生产成本低,有利环保
本发明方法,在多羟基二苯甲酮合成中,合成物脱色精制后,加入相当合成原料总重量0.1%-5%的金属离子螯合剂,然后进行重结晶,离心过滤。所述金属离子螯合剂为有机酸,包括枸橼酸、柠檬酸、柠檬酸钾、柠檬酸一钠、苹果酸、酒石酸、冰醋酸中的一种或多种。
在2,3,4,4’-四羟基二苯甲酮合成中,最合适金属离子螯合剂为柠檬酸。
在2,3,4-三羟基二苯甲酮合成中,最合适金属离子螯合剂为枸橼酸。
本发明是经过上百次的反复实验筛选与对比,找到了一组较好的微量金属离子螯合剂,并在整个合成工艺的合适阶段加入,可使产品金属杂质含量降低到100ppb一下,得到了符合电子级要求多羟基二苯甲酮产品。本方法简便易行,生产成本低,有利环保。
具体实施方式
以下结合具体的实施例对本发明作进一步的说明。
实施例1:
2,3,4,4’-四羟基二苯甲酮金属离子去除:将焦性没食子酸100g,对羟基苯甲酸120g,与1,2-二氯乙烷2000ml混合,缓慢滴加三氟化硼乙醚溶液300mL,无水ZnCl2180g,,磁搅拌升温至60℃,反应4h,冷却,反应混合物缓慢倒入冰水中,并充分搅拌,静置30mim,析出固体,过滤,滤饼分别用5%的碳酸钠溶液和蒸馏水水涤两次,收集结晶物,用35%乙醇350ml,加入活性炭6g脱色,加入柠檬酸12g去金属离子,0-10℃下重结晶,离心过滤,蒸馏水洗涤,得到淡黄色结晶168.7g,收率76.7%,HPIC分析结果2,3,4,4’-四羟基二苯甲酮含量在99.6%,原子吸收光谱法(AAS)测定,总金属离子含量76ppb。
实施例2:
2,3,4-三羟基二苯甲酮金属离子去除:将焦性没食子酸100g投入1000ml三颈瓶,加入三氯化铝10g,蒸馏水300ml和100ml二甲苯,搅拌使固体全部溶解,升温至60℃左右,在激烈搅拌下,开始滴加三氯甲苯共85ml,继续搅拌反应2小时,有大量红色沉淀停止搅拌,缓慢冷却至室温后,在0-5℃条件下结晶,过滤,用冷却的饱和食盐水洗涤至滤液为淡黄色,抽干,干燥,得红色固体粗产物。加入500ml二甲苯和30ml次亚磷酸(35%)水溶液,加入活性炭8克脱色,加入枸橼酸15g去金属离子,加热回流半小时,过滤,减压蒸馏出部分甲苯,0-10℃下重结晶,离心过滤,蒸馏水洗涤,得到淡黄色结晶90.5g,收率82.3%,HPIC分析结果2,3,4-三羟基二苯甲酮含量在99.7%,原子吸收光谱法(AAS)测定,总金属离子含量65ppb。
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