[发明专利]倍他米松中间体的制备工艺无效
| 申请号： | 200910226199.9 | 申请日： | 2009-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN102071240A | 公开（公告）日： | 2011-05-25 |
| 发明（设计）人： | 林伟;应明华;张直庆 | 申请（专利权）人： | 浙江仙琚制药股份有限公司 |
| 主分类号： | C12P33/02 | 分类号： | C12P33/02;C12R1/06 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 朱建新;逯长明 |
| 地址： | 317300*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 中间体 制备 工艺 | ||
1.一种式II所示化合物的制备工艺，由式I所示的化合物通过生物发酵脱氢而得到，
其中，基团基团R为-H或-COCH3；
其特征在于：所述生物发酵脱氢过程中，发酵液中添加了惰性研磨材料。
2.根据权利要求1所述的制备工艺，其特征在于：所述惰性研磨材料为
氧化硅或以氧化硅为主的惰性耐磨材料。
3.根据权利要求1或2所述的制备工艺，其特征在于：所述惰性研磨材料的粒径为1mm～10mm。
4.根据权利要求1或2所述的制备工艺，其特征在于：所述惰性研磨材料体积占发酵液体积1/3～1/10。
5.根据权利要求1所述的制备工艺，其特征在于：式I所示化合物，粒径为100～140目。
6.根据权利要求3所述的制备工艺，其特征在于：所述惰性研磨材料的粒径为3mm～6mm。
7.根据权利要求4所述的制备工艺，其特征在于：所述惰性研磨材料体积占发酵液体积的1/6～1/4。
8.根据权利要求2所述的制备工艺，其特征在于：所述惰性研磨材料为玻璃珠或陶瓷珠。
9.根据权利要求1所述的制备工艺，其特征在于：所述生物发酵脱氢过程为：
(1)、配制发酵培养基，该培养基含有质量百分比如下的成分∶葡萄糖为0.4％～0.8％、玉米浆为0.6％～1.0％、蛋白胨为0.1％～0.5％、KH2PO4为0.10～0.20％，其余为水；该发酵培养基的pH为7.0～7.2；
(2)、向发酵培养基中加入惰性研磨材料；
(3)、向发酵培养基中加入简单节杆菌，培养20～22h；
(4)、向发酵培养基中加入式I所示化合物，培养48～75h，终止发酵。
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