[发明专利]物理气相沉积(PVD)及冷阳极氧化金属着色

权利要求书

1.一种方法，所述方法包括：以下述电流和温度阳极氧化铌被覆金属基板，使其硬度大于或等于约350HV(维氏金刚石棱锥硬度数)，所述电流和温度分别处于有助于提高所述铌被覆金属基板的硬度的电流范围和温度范围内。

2.一种方法，所述方法包括：在约0摄氏度～约5摄氏度的温度范围内的温度下，使用在不超过约1.5安培的电流范围内的电流来阳极氧化铌被覆金属基板。

3.如权利要求2所述的方法，其中，所述阳极氧化包括阳极氧化所述铌被覆金属基板，使其硬度大于或等于约350HV(维氏金刚石棱锥硬度数)。

4.如权利要求1所述的方法，其中，所述温度范围为约0摄氏度～约5摄氏度。

5.如权利要求1所述的方法，其中，所述电流范围不超过约1.5安培。

6.如权利要求1或2所述的方法，其中，预先确定所述温度范围和/或所述电流范围中的至少一个，以实现较慢的沉积、较高的涂层密度、避免电流穿透铌涂层和/或更均匀的着色。

7.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述阳极氧化包括使用包含磷酸(H₃PO₄)、硝酸(HNO₃)、硫酸(H₂SO₄)、水(H₂O)和三乙醇胺(TEA)的阳极氧化溶液。

8.如权利要求7所述的方法，其中，所述阳极氧化溶液包含1份磷酸(H₃PO₄)、2份硝酸(HNO₃)、4份硫酸(H₂SO₄)、9份水(H₂O)和1份三乙醇胺(TEA)。

9.如权利要求1或2所述的方法，所述方法还包括使用铌被覆至少一部分金属基板，由此提供所述铌被覆金属基板。

10.如权利要求1或2所述的方法，所述方法还包括使用铌完全被覆至少金属基板的上侧和下侧，由此提供所述铌被覆金属基板。

11.如权利要求1或2所述的方法，所述方法还包括在至少一部分金属基板上沉积铌，由此提供所述铌被覆金属基板。

12.如权利要求11所述的方法，其中，所述沉积铌包括至少一次铌的物理气相沉积。

13.如权利要求11所述的方法，其中，所述沉积铌包括在至少所述金属基板的上侧和下侧上沉积铌。

14.如权利要求11所述的方法，其中，所述沉积铌包括磁控溅射、电弧蒸发、蒸发和/或铁溅射。

15.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述方法包括：

铌的第一次物理气相沉积；

在所述铌的第一次物理气相沉积之后的超声洗涤；

在所述超声洗涤之后的铌的第二次物理气相沉积。

16.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述铌被覆金属基板包括厚度在约0.1微米～约3微米范围内的铌涂层。

17.如权利要求1或2所述的方法，所述方法还包括：

在阳极氧化之前使用树脂被覆至少一部分所述铌被覆金属基板；和/或

在阳极氧化之后使用树脂被覆至少一部分经阳极氧化的所述铌被覆金属基板。

18.如权利要求17所述的方法，其中，所述树脂涂层提高了所述铌被覆金属基板的耐用性。

19.如权利要求17所述的方法，其中，所述树脂包括聚氨酯树脂和/或紫外线固化树脂。

20.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述阳极氧化包括使用串联的10欧姆～500欧姆的电阻控制电流。

21.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述阳极氧化包括使用具有随时间而变的电阻的电阻器或具有恒定电阻的电阻器控制电流。

22.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述阳极氧化包括在至少所述阳极氧化的早期阶段中抑制起始电流。