[发明专利]一种真空电弧镀制备Al-Si-Y高温防护涂层的方法无效

专利信息
申请号: 200910220781.4 申请日: 2009-12-15
公开(公告)号: CN102094171A 公开(公告)日: 2011-06-15
发明(设计)人: 高淑春;胡金玲;杨升山 申请(专利权)人: 沈阳天贺新材料开发有限公司
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/32;C23C14/02;C23C14/58
代理公司: 沈阳亚泰专利商标代理有限公司 21107 代理人: 韩辉
地址: 110168 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空 电弧 制备 al si 高温 防护 涂层 方法
【权利要求书】:

1.一种真空电弧镀制备Al-Si-Y高温防护涂层的方法,其特征在于有下列步骤:

(1)基材预处理:将基材经砂纸打磨后,分别在丙酮及无水乙醇中超声波清洗,吹干后备用;

(2)靶材制备:将成分为硅4.5-5.5%、钇1.0-2.0%、铝余量的合金制成阴极靶材;

(3)将待镀工件置于阴极与阳极之间;

(4)离子清理:参数如下:

真空度:P<5.32×10-2Pa

电弧电流:400-600A

工作电压:200-300V

清理时间:2-6min。

(5)在阴极与阳极之间施加电场,使阴极合金涂层材料转化为等离子束流,并朝代镀工件表面定向加速运动,与工件表面相互作用后,产生表面凝聚,形成涂层,参数为:

真空度:P<5.32×10-2Pa

电弧电流:400-600A

电弧电压:30-50V

沉积时间:1-3h。

(6)将沉积后工件真空退火,参数为:

真空度:P<1.33×10-1Pa

温度:1000-1100℃

时间3-5h。

2.按照权利要求1所述的真空电弧镀制备Al-Si-Y高温防护涂层的方法,其特征在于涂层沉积前对工件表面进行离子清理。

3.按照权利要求1所述的真空电弧镀制备Al-Si-Y高温防护涂层的方法,其特征在于镀覆后对叶片进行真空扩散热处理。

4.按照权利要求1所述的真空电弧镀制备Al-Si-Y高温防护涂层的方法,其特征在于渗层深度为0.02~0.04mm。

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