[发明专利]具有整体识别特征的化学机械抛光垫

权利要求书

1.一种用于抛光选自磁性基材、光学基材和半导体基材的基材的化学机 械抛光垫，它包含：

具有适合抛光基材的抛光表面和独特整体识别特征的抛光层；

其中独特整体识别特征不具抛光活性，其中独特整体识别特征包含至少两 个视觉上可区分的标记，所述至少两个视觉上可区分的标记中的至少一个是并 非基于颜色的标记，所述至少两个视觉上可区分的标记之一是基于颜色的标 记，对所述至少两个视觉上可区分的标记进行选择，以唯一地识别出化学机械 抛光垫，作为从多个类型的化学机械抛光垫中选出的化学机械抛光垫；以及

其中所述抛光层具有适合抛光基材的抛光表面。

2.如权利要求1所述化学机械抛光垫，其特征在于，所述独特整体识别 特征具有平行且重合于抛光表面的截面，其中所述截面选自多边形、鲁洛多边 形、圆形、卵形、椭圆形、透镜形、弓形、超椭圆形、方圆形、四次平面 曲线。

3.如权利要求1所述化学机械抛光垫，其特征在于，所述独特整体识别 特征在抛光层的整个厚度上延伸。

4.如权利要求1所述化学机械抛光垫，其特征在于，所述独特整体识别 特征在抛光径迹之外。

5.如权利要求1所述化学机械抛光垫，其特征在于，所述独特整体识别 特征的平均密度与包含该独特整体识别特征的抛光层余下部分的平均密度相 差±10％以内。

6.如权利要求1所述化学机械抛光垫，其特征在于，所述独特整体识别 特征具有与抛光层余下部分的平均密度相差±10％以内的平均密度以及与抛 光层余下部分的平均肖氏D硬度相差±10％以内的肖氏D硬度。

7.如权利要求1所述化学机械抛光垫，其特征在于，所述抛光层具有基 本呈圆形的截面和中心轴，其中独特整体识别特征位于距离中心轴≤30mm的 区域内。

8.如权利要求7所述化学机械抛光垫，其特征在于，基于颜色的标记是 基于颜色的中心标记，其中基于颜色的中心标记占据距离中心轴≤30mm的区 域，且基于颜色的标记包含活性聚合物着色剂，该着色剂包含化学键合到 多元醇上的发色团。

9.一种制备如权利要求1所述的化学机械抛光垫的方法，它包括：

提供一个整体塞；

提供一个模具；

提供可流动化学机械抛光层前体材料；将可流动化学机械抛光层前体材料 引入模具；将整体塞引入可流动化学机械抛光层前体材料；

使可流动化学机械抛光层前体材料发生反应，形成凝固的块状物；

将凝固的块状物切成多个单独的化学机械抛光层，其中每个单独的化学机 械抛光层具有一个抛光表面和整体塞部分；包含在每个单独的化学机械抛光层 中的所述整体塞部分是独特整体识别特征，该特征具有平行且重合于抛光表面 的截面，其中该截面具有至少两个视觉上可区分的标记，所述至少两个视觉上 可区分的标记中的至少一个是并非基于颜色的标记，所述至少两个视觉上可区 分的标记中的至少一个是基于颜色的标记，对所述至少两个视觉上可区分的标 记进行选择，以便观察人员唯一地识别出含抛光层的化学机械抛光垫，作为从 多个类型的化学机械抛光垫中选出的化学机械抛光垫；以及

所述抛光表面适合抛光基材。

10.一种对选自磁性基材、光学基材和半导体基材的基材进行化学机械抛 光的方法，它包括：

提供具有台板的化学机械抛光装置；

提供至少一个选自磁性基材、光学基材和半导体基材的基材；

提供至少两个抛光操作；

提供多个类型的化学机械抛光垫，其中每个类型的化学机械抛光垫具有不 同的抛光性质和一个独特整体识别特征，该特征将每个类型的化学机械抛光垫 与所述多个类型的化学机械抛光垫中的其他类型区别开来，其中所述独特整体 识别特征不具抛光活性，该独特整体识别特征包含至少两个视觉上可区分的标 记，其中所述至少两个视觉上可区分的标记中的至少一个是并非基于颜色的标 记，而所述至少两个视觉上可区分的标记之一是基于颜色的标记，对所述至少 两个视觉上可区分的标记进行选择，使之可观察到，并且唯一地识别出多个类 型的化学机械抛光垫中的每个类型；

提供至少两个抛光配置，其中每个抛光配置与所述至少两个抛光操作之一 对应，每个抛光配置包含所述至少两个视觉上可区分的标记的一个识别，用于 识别所用类型的化学机械抛光垫；

从所述至少两个抛光操作中选择要进行的抛光操作并选择对应的抛光配 置；

将在选定配置中识别的那个类型的化学机械抛光垫安装到台板上；

观察安装好的化学机械抛光垫的独特整体识别特征，确认其中包含的至少 两个视觉上可区分的标记与在选定配置中识别的标记对应；以及

在至少一个基材上进行选定抛光操作。