[发明专利]移除光致抗蚀剂的方法

权利要求书

1.一种移除光致抗蚀剂的方法，包含：

提供基材，其包含图案化光致抗蚀剂；

对该基材进行离子注入步骤；

对该基材进行非氧化性前处理，其中该非氧化性前处理提供包含氢气、载气与等离子体的处理条件；以及

对该基材进行光致抗蚀剂剥除步骤，以完全移除该图案化光致抗蚀剂。

2.如权利要求1的方法，其中该基材包含硅。

3.如权利要求1的方法，其中该离子注入步骤为轻漏极掺杂。

4.如权利要求1的方法，其中该非氧化性前处理包含等离子体灰化步骤，以破坏该光致抗蚀剂。

5.如权利要求1的方法，其中该载气包含惰性气体。

6.如权利要求1的方法，其中在阶段性温度下进行该非氧化性前处理。

7.如权利要求6的方法，其中在150秒至300秒之间进行该阶段性温度。

8.如权利要求1的方法，其中该光致抗蚀剂剥除步骤包含使用硫酸的双氧水溶液。

9.如权利要求1的方法，其中该光致抗蚀剂剥除步骤包含使用氨的双氧水溶液。

10.如权利要求1的方法，其中该光致抗蚀剂剥除步骤实质上不伤害该基材。

11.如权利要求1的方法，其中该光致抗蚀剂剥除步骤为湿式清洁步骤。