[发明专利]减反射膜、光学构件、光学系统无效
申请号: | 200910203875.0 | 申请日: | 2009-05-22 |
公开(公告)号: | CN101587197A | 公开(公告)日: | 2009-11-25 |
发明(设计)人: | 寺山悦夫 | 申请(专利权)人: | 富士能株式会社 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李贵亮 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 减反射膜 光学 构件 光学系统 | ||
1.一种减反射膜,其特征在于,
在基板上备有包括从远离上述基板一侧依次层叠的第1至第8层的减反射层,
第1及第6层由对d线具有1.35以上1.50以下的折射率的低折射率材料构成,
第3、第5及第7层由对d线具有1.55以上1.85以下的折射率的中间折射率材 料构成,
第2、第4及第8层由对d线具有在1.70以上2.50以下的范围且高于上述中间 折射率材料的折射率的高折射率材料构成。
2.如权利要求1所述的减反射膜,其特征在于,
进一步全部满足以下条件式(1)~(8):
0.23×λ0≤N1×d1≤0.25×λ0……(1)
0.11×λ0≤N2×d2≤0.13×λ0……(2)
0.03×λ0≤N3×d3≤0.05×λ0……(3)
0.25×λ0≤N4×d4≤0.29×λ0……(4)
0.22×λ0≤N5×d5≤0.24×λ0……(5)
0.22×λ0≤N6×d6≤0.26×λ0……(6)
0.21×λ0≤N7×d7≤0.24×λ0……(7)
0.45×λ0≤N8×d8≤0.53×λ0……(8)
此处,
λ0为中心波长,
N1~N8为第1至第8层对中心波长λ0的折射率,
d1~d8为第1至第8层的物理性膜厚。
3.如权利要求1或2所述的减反射膜,其特征在于,
在上述基板和上述减反射层之间还具备缓冲层,该缓冲层具有由上述中间 折射率材料构成的单层构造、或与上述减反射层相接的层由上述中间折射率材 料构成的多层构造。
4.如权利要求3所述的减反射膜,其特征在于,
上述基板对d线的折射率为1.66以上2.2以下,
上述缓冲层包括从上述减反射层侧依次层叠的第9至第13层,
上述第9、第11及第13层由上述中间折射率材料构成,并且上述第10及第 12层由上述高折射率材料构成。
5.如权利要求3所述的减反射膜,其特征在于,
上述基板对d线的折射率为1.51以上1.72以下,
上述缓冲层包括从上述减反射层侧依次层叠的第9至第11层,
上述第9及第11层由上述中间折射率材料构成,并且上述第10层由上述高 折射率材料构成。
6.如权利要求3所述的减反射膜,其特征在于,
上述基板对d线的折射率为1.40以上1.58以下,
上述缓冲层包括从上述减反射层侧依次层叠的第9至第12层,
上述第9及第12层由上述中间折射率材料构成,上述第10层由上述高折射 率材料构成,上述第11层由上述低折射率材料构成,或者上述第9层由上述中 间折射率材料构成,上述第10及12层由上述高折射率材料构成,上述第11层由 上述低折射率材料构成,上述第12层的折射率比上述第10层的折射率低。
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