[发明专利]一种制备ZnO纳米线阵列的方法

权利要求书

1.制备ZnO薄膜的方法，其特征是首先在衬底材料上制备出银的子层，然 后将衬底浸入到总体积为50mL的5～120mM的硝酸锌水溶液与10～30mM的 二甲基胺硼烷水溶液中，保持溶液温度为60～90℃，充分反应后可在衬底上得 到氧化锌薄膜。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征是真空蒸镀的方法，或者真空溅射 的方法在衬底上形成银的子层。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征是采用化学法在玻璃衬底表面形成 银的子层。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征是所用的化学法在衬底表面形成银 的子层的方法为：

a.把玻璃衬底分别在蒸馏水、酒精、丙酮溶液中超声清洗，除去表面的杂质、 油渍；

b.把清洗好的衬底在常温下浸入到5-10g/L的SnCl₂和0.08M的盐酸混合敏 化溶液中，浸泡0.5至5分钟；

c.取出后，浸入到蒸馏水中2至20秒；

d.然后取出，再把玻璃衬底浸入到1-10g/L的常温AgNO₃处理水溶液中， 浸泡1至6分钟；

e.重复步骤b-d数次，直至玻璃衬底材料由光亮透明变为茶色。

5.根据权利要求1至4所述的任一方法，其特征是将带有银的衬底材料浸 入到50mL的5～10mM的硝酸锌水溶液与10～30mM的二甲基胺硼烷水溶液 中处理，得到针状ZnO纳米线阵列。

6.根据权利要求1至4所述的任一方法，其特征是带有银的衬底材料浸入 到50mL的20～70mM的硝酸锌水溶液与10～30mM的二甲基胺硼烷水溶液 中处理，得到截面为六角形的柱状ZnO纳米线阵列。

7.根据权利要求1至4所述的任一方法，其特征是将带有银的衬底材料浸 入到50mL的80～120mM的硝酸锌水溶液与10～30mM的二甲基胺硼烷水溶 液中处理，得到片状或者多晶结构的ZnO薄膜。