[发明专利]一种化学机械抛光液有效
| 申请号: | 200910201381.9 | 申请日: | 2009-12-18 |
| 公开(公告)号: | CN102101977A | 公开(公告)日: | 2011-06-22 |
| 发明(设计)人: | 荆建芬;蔡鑫元 | 申请(专利权)人: | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02;C23F3/03 |
| 代理公司: | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人: | 李佳铭 |
| 地址: | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 化学 机械抛光 | ||
1.一种化学机械抛光液,其包含:研磨颗粒、络合剂及腐蚀抑制剂。
2.如权利要求1所述抛光液,其特征在于,所述腐蚀抑制剂为含颜料亲和基团的星型聚合物。
3.如权利要求2所述抛光液,其特征在于,所述含颜料亲和基团的星型聚合物为选自羟基、氨基和羧基中的一种或多种。
4.如权利要求3所述抛光液,其特征在于,形成所述的含颜料亲和基团的星型聚合物的聚合单体包括下列中的一种或多种:丙烯酸类单体、丙烯酸酯类单体、丙烯酰胺类单体和环氧乙烷。
5.如权利要求4所述抛光液,其特征在于,所述的丙烯酸类单体为丙烯酸和/或甲基丙烯酸;所述的丙烯酸酯类单体为选自丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸羟乙酯和甲基丙烯酸羟乙酯中的一种或多种;所述的丙烯酰胺类单体为丙烯酰胺和/或甲基丙烯酰胺。
6.如权利要求4所述抛光液,其特征在于,形成所述的含颜料亲和基团的星型聚合物的单体还包括其他乙烯基类单体。
7.如权利要求6所述抛光液,其特征在于,所述其他乙烯基类单体为选自乙烯、丙烯、苯乙烯和对甲基苯乙烯中的一种或多种。
8.如权利要求2所述抛光液,其特征在于,所述含颜料亲和基团的星型聚合物为选自聚丙烯酸星型均聚物,苯乙烯与丙烯酸羟乙酯的二元星型共聚物,对甲基苯乙烯与环氧乙烷的二元星型共聚物,苯乙烯与环氧乙烷的二元星型共聚物,甲基丙烯酸甲酯与环氧乙烷的二元星型共聚物,丙烯酸甲酯与丙烯酸羟乙酯的二元星型共聚物,丙烯酸与丙烯酸羟乙酯的二元星型共聚物,以及丙烯酸、丙烯酸丁酯和丙烯酰胺的三元星型共聚物中的一种或多种。
9.如权利要求2所述抛光液,其特征在于,所述含颜料亲和基团的星型聚合物的数均分子量为800-50000。
10.如权利要求2所述抛光液,其特征在于,所述含颜料亲和基团的星型聚合物的含量为质量百分比0.0001~5%。
11.如权利要求1所述抛光液,其特征在于,所述研磨颗粒为选自二氧化硅、三氧化二铝、掺杂铝的二氧化硅、覆盖铝的二氧化硅、二氧化铈、二氧化钛和高分子研磨颗粒中的一种或多种。
12.如权利要求1所述抛光液,其特征在于,所述研磨颗粒的含量为质量百分比0.1~20%。
13.如权利要求1所述抛光液,其特征在于,所述研磨颗粒的粒径为20~150nm。
14.如权利要求1所述的抛光液,其特征在于,所述络合剂为有机酸及其盐、有机膦酸及其盐。
15.如权利要求14所述的抛光液,其特征在于,所述有机酸为选自醋酸、草酸、柠檬酸、酒石酸、丙二酸、丁二酸、马来酸、苹果酸、乳酸、丹宁酸、没食子酸、磺基水杨酸、乙二胺四乙酸、环己烷四乙酸、乙二胺二琥珀酸、二乙烯三胺五乙酸和三乙烯四胺六乙酸中的一种或多种;所述有机膦酸为选自2-膦酸丁烷-1,2,4-三羧酸、氨基三甲叉膦酸、羟基乙叉二膦酸、乙二胺四甲叉膦酸、二乙烯三胺五甲叉膦酸、多元醇膦酸酯、2-羟基膦酸基乙酸、乙二胺四甲叉膦酸和多氨基多醚基甲叉膦酸中的一种或多种。所述的盐为铵盐、钾盐和/或钠盐。
16.如权利要求1所述的抛光液,其特征在于,所述络合剂的含量为质量百分比0.01~10%。
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