[发明专利]用于漏氢检测的钯合金电化学纳米氢传感器敏感层及方法无效

专利信息
申请号: 200910201099.0 申请日: 2009-12-15
公开(公告)号: CN101813657A 公开(公告)日: 2010-08-25
发明(设计)人: 翁百成;李志林;杨辉;吴铸 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: G01N27/12 分类号: G01N27/12;B22F9/24
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人: 潘振甦
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 用于 检测 合金 电化学 纳米 传感器 敏感 方法
【权利要求书】:

1.一种用于漏氢检测的电化学纳米氢传感器敏感层的制备方法,所述的敏 感层由化学吸附在绝缘体表面的钯合金纳米金属粒子组成;所述的钯合金为钯- 镍或钯银合金,其中钯的质量百分数为85%-94%,余量为镍或银;所述的绝缘 体为采用硅烷偶联剂修饰的玻璃基体,其特征在于采用化学还原法制备钯合金 纳米金属粒子,络合或包覆后采用化学吸附方法吸附到作为绝缘体的硅烷偶联 剂玻璃基体表面;

其中,①所述的化学还原法使用的还原剂为抗坏血酸、硼氢化钠、高温氢 气或乙二醇;②所述的硅烷偶联剂通式为:Y(CH3)nSiX3,n为0-3的整数,X 为可水解基团氯、甲氧基或乙酰氧基,Y为有机官能团;③Pd-Ag敏感层采用 柠檬酸络合或包覆,Pd-Ni敏感层采用十二烷基磺酸钠、聚乙烯吡咯烷酮或聚乙 二醇400络合或包覆。

2.按权利要求1所述的敏感层的制备方法,其特征在于制备的具体步骤 是:

A、将盖玻片先用王水浸泡,去离子水洗后在无水乙醇中超声清洗,真空 烘干后放在Pirahan溶液中于100℃下处理1-3h,然后用去离子水洗涤后150℃ 真空干燥,冷却后使用甲苯冲洗,再浸泡在硅烷偶联剂的甲苯溶液中即得到硅 烷偶联剂修饰的玻璃基体;

B、将步骤A制备的硅烷偶联剂修饰的玻璃基体放置在溶液底部,采用化 学还原法制备吸附在玻璃基体上的钯-银或钯-镍合金:

(a)钯-银合金吸附

按钯的质量百分数为85%-94%,余量为Ag的组成,称取硝酸铵钯和硝酸 银用去离子水配制成溶液,边搅拌边用氨水调节PH值为10-11,并在搅拌下加 入柠檬酸,其中,硝酸铵钯与柠檬酸的质量比例控制在0.3-2∶1;硝酸银与柠檬 酸的质量比例为0.2-0.6∶1;且在40-50kHz条件下超声,并滴加过量的还原剂, 常温条件下继续超声6h;最后取出玻璃基体,并在50-60℃热去离子水条件下 洗涤3-5次,最后在60-70℃真空条件下烘干;

(b)钯-镍合金吸附

按钯的质量百分数为85-94%,余量为Ni2O组成,称取PdCl2和NiCl2固 体,搅拌条件下加入十二烷基磺酸钠、聚乙二醇400或PVP,冰水浴中40- 50kHz条件下超声,并滴加过量的还原剂,常温条件下继续超声6h,最后取出 玻璃基体,并在50-60℃热去离子水条件下洗涤3-5次,最后在60-70℃真空条 件下烘干。

3.按权利要求2所述的敏感层的制备方法,其特征在于步骤B中钯-镍合 金吸附时十二烷基磺酸钠加入量为2-6g/L,聚乙烯基吡咯烷酮加入量为5- 8g/L,聚乙二醇400的加入量为1-3g/L。

4.按权利要求2所述的敏感层的制备方法,其特征在于步骤A中①150℃ 真空干燥时间为20-100min;②硅烷偶联剂的甲苯溶液的体积比为1∶50,使用 的硅烷偶联剂为CH3(CH2)7Si(CH3)2Cl或CH3Si(OCH3)2CH2CH2CH2SH。

5.一种按权利要求1-4中任一项方法所制备的敏感层。

6.按权利要求5所述的敏感层,其特征在于敏感层的厚度为20-150nm。

7.按权利要求5所述的敏感层,其特征在于所述的敏感层中纳米合金的粒 径为5-80nm。

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