[发明专利]一种扫描光刻机掩模台位置测量装置及测量方法

权利要求书

1.一种扫描光刻机掩模台位置测量装置，包括：

水平纵向测量模块(101)，水平横向测量模块(102)，掩模台(103)，物镜(104)和主基板(113)；

其特征在于：

所述水平纵向测量模块(101)和所述水平横向测量模块(102)均包括若干干涉仪测量轴；

所述掩模台(103)面对水平纵向测量模块(101)的一侧安装有第一角锥棱镜(109)和第二角锥棱镜(115)，面对水平横向测量模块(102)的一侧安装有第一长条平面反射镜(118)，所述掩模台(103)底部沿水平纵向安装有第二长条平面反射镜(110)和第三长条平面反射镜(114)；所述物镜(104)顶部和所述第二长条平面反射镜(110)、第三长条平面反射镜(114)正下方，安装有若干45度反射镜和平面反射镜。

2.根据权利要求1所述的扫描光刻机掩模台位置测量装置，其特征在于，所述水平纵向测量模块(101)至少包括六个干涉仪测量轴，分别为Y1，Y2，YR，Z1，Z2，Z3；所述水平横向测量模块(102)至少包括两个干涉仪测量轴，分别为X1，XR；所述45度反射镜至少为三个，分别为第一45度反射镜(105)，第二45度反射镜(106)，第三45度反射镜(107)；所述平面反射镜至少为两个，分别为第一平面反射镜(111)，第二平面反射镜(112)。

3.根据权利要求2所述的扫描光刻机掩模台位置测量装置，其特征在于，所述YR干涉仪测量轴位于水平纵向轴线上，所述XR干涉仪测量轴位于水平横向轴线上。

4.根据权利要求2所述的扫描光刻机掩模台位置测量装置，其特征在于，所述第一角锥棱镜109、第二角锥棱镜115分别对应于所述干涉仪测量轴Y1、Y2，使所述干涉仪测量轴Y1、Y2的出射光分别能被所述第一角锥棱镜109、第二角锥棱镜115反射后沿原路返回；所述第二平面反射镜112对应于所述干涉仪测量轴YR，使所述干涉仪测量轴YR的出射光能被所述第二平面反射镜112反射后沿原路返回。

5.根据权利要求4所述的扫描光刻机掩模台位置测量装置，其特征在于，所述第一长条平面反射镜118对应于干涉仪测量轴X1，使干涉仪测量轴X1的出射光能被所述第一长条平面反射镜118反射后沿原路返回；所述第一平面反射镜111对应于干涉仪测量轴XR，使干涉仪测量轴XR的出射光能被所述第一平面反射镜111反射后沿原路返回。

6.根据权利要求5所述的扫描光刻机掩模台位置测量装置，其特征在于，所述第一45度反射镜105、第二45度反射镜106分别对应于干涉仪测量轴Z1、Z2，使所述干涉仪测量轴Z1、Z2的出射光能被所述第一45度反射镜105、第二45度反射镜106反射后到达第二长条平面反射镜110，光束被反射后沿原路，再分别经第一45度反射镜105、第二45度反射镜106返回；所述第三45度反射镜107对应于干涉仪测量轴Z3，使所述干涉仪测量轴Z3的出射光能被所述第三45度反射镜107反射后到达第三长条平面反射镜114，光束被反射后沿原路，再经第三45度反射镜107返回。

7.根据权利要求6所述的扫描光刻机掩模台位置测量装置，其特征在于，所述水平纵向测量模块(101)还包括一个干涉仪测量轴Z4，所述水平横向测量模块(102)还包括一个干涉仪测量轴X2，所述扫描光刻机掩模台位置测量装置还包括第四45度反射镜(108)，所述第四45度反射镜108对应于干涉仪测量轴Z4，使所述干涉仪测量轴Z4的出射光能被所述第四45度反射镜108反射后到达第三长条平面反射镜114，光束被反射后沿原路，再经第四45度反射镜108返回；所述第一长条平面反射镜118对应于干涉仪测量轴X2，使干涉仪测量轴X2的出射光能被所述第一长条平面反射镜118反射后沿原路返回。

8.根据权利要求7所述的扫描光刻机掩模台位置测量装置，其特征在于，Y1干涉仪测量轴与所述Y2干涉仪测量轴有一距离dy且关于水平纵向(y向)轴线对称，Z1干涉仪测量轴到水平纵向(y向)轴线有一距离dz，Z2干涉仪测量轴到Z1干涉仪测量轴有一距离cz，且干涉仪测量轴Z1、Z2与干涉仪测量轴Z3、Z4关于水平纵向(y向)轴线对称。

9.根据权利要求7所述的扫描光刻机掩模台位置测量装置，其特征在于，干涉仪测量轴X1与干涉仪测量轴X2关于水平横向(x向)轴线对称。