[发明专利]插入在电感器周围的图形填充物结构

权利要求书

1.一种插入在电感器周围的图形填充物结构，所述图形填充物结构为多个与电感器金属线圈等高的正方形金属块，插入在电感器金属线圈的内侧区域和外侧区域，所述电感器金属线圈位于顶层金属层；

所述正方形金属块的边长等于第一最小设计规则，所述第一最小设计规则为工艺允许的最小尺寸；

所述图形填充物结构的密度不小于第二最小设计规则，所述第二最小设计规则为图形填充物结构密度的最小值；

所述正方形金属块之间的间隔，在第三最小设计规则至间隔最大值的区间内任意取值，所述间隔最大值为：当图形填充物结构的密度等于第二最小设计规则时，正方形金属块之间所具有的间隔；所述第三最小设计规则为工艺允许的金属间的最小间隔。

2.如权利要求1所述的结构，其特征在于，所述图形填充物结构密度为(密度检查窗口内电感器金属线圈的面积+密度检查窗口内图形填充物结构的面积)/密度检查窗口的面积×100％，所述“()”表示括号，所述“+”表示加号，所述“/”表示除号，所述“×”表示乘号。

3.如权利要求2所述的结构，其特征在于，所述密度检查窗口的面积为预定值。

4.如权利要求1、2或3所述的结构，其特征在于，所述正方形金属块的边长等于第一最小设计规则，图形填充物结构的密度等于第二最小设计规则。

5.如权利要求1所述的结构，其特征在于，次顶层金属层与电感器相对应的区域上，进一步包括插入的图形填充物结构，

所述次顶层金属层中插入图形填充物结构的面积等于顶层金属层中电感器金属线圈的面积减去次顶层金属层电感器桥部分的面积加上电感器金属线圈周围图形填充物结构的面积；

所述次顶层金属层中图形填充物结构的金属块边长等于该层的第一最小设计规则；

所述次顶层金属层中图形填充物结构的密度不小于该层第二最小设计规则；

所述次顶层金属层中正方形金属块之间的间隔，在该层第三最小设计规则至该层间隔最大值的区间内任意取值，所述该层间隔最大值为：当图形填充物结构的密度等于该层第二最小设计规则时，正方形金属块之间所具有的间隔。

6.如权利要求1所述的结构，其特征在于，其他的每层金属层与电感器相对应的区域上，进一步包括插入的图形填充物结构，

所述其他的每层金属层插入图形填充物结构的面积等于顶层金属层中电感器金属线圈的面积加上电感器金属线圈周围图形填充物结构的面积；

所述其他的每层金属层中图形填充物结构的金属块边长等于该层的第一最小设计规则；

所述其他的每层金属层中图形填充物结构的密度不小于该层第二最小设计规则；

所述其他的每层金属层中正方形金属块之间的间隔，在该层第三最小设计规则至该层间隔最大值的区间内任意取值，所述该层间隔最大值为：当图形填充物结构的密度等于该层第二最小设计规则时，正方形金属块之间所具有的间隔。