[发明专利]薄膜沉积方法和装置

权利要求书

1.一种薄膜沉积方法，该方法应用于炉管中，所述炉管包括：加热器、反应腔、底盖、晶舟、进气口和出气口，其中，底盖和晶舟相连，用于在外界驱动系统的驱动下带动晶舟上下移动；晶舟包括若干个格子，每个格子用于装载一片晶圆；反应腔，用于反应气体在晶圆表面进行薄膜沉积；加热器，位于反应腔的外部，用于对反应腔进行加热，其中，加热器按照从上到下的顺序分为5个温区，用于分别对反应腔的上部、上中部、中部、中下部和下部进行加热；进气口，位于反应腔的上部或下部，用于输入反应所需气体；出气口，位于反应腔的上部或下部，用于排出废气，其特征在于，该方法包括：

在晶舟的每个格子上放置一片晶圆，将晶舟装载至反应腔内，并向反应腔内通入反应气体，其中，按照从上到下的顺序相邻格子之间的间距为一等差数列；

调整反应腔的上部温度、上中部温度、中部温度、中下部温度和下部温度，且反应腔的上部温度、上中部温度、中部温度、中下部温度和下部温度相等。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，当进气口位于反应腔的上部时，按照从上到下的顺序相邻格子之间的间距依次递增。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，当进气口位于反应腔的下部时，按照从上到下的顺序相邻格子之间的间距依次递减。

4.一种薄膜沉积装置，该装置包括：加热器、反应腔、底盖、晶舟、进气口和出气口，其中，底盖和晶舟相连，用于在外界驱动系统的驱动下带动晶舟上下移动；反应腔，用于反应气体在晶圆表面进行薄膜沉积；加热器，位于反应腔的外部，用于对反应腔进行加热；进气口，位于反应腔的上部或下部，用于输入反应所需气体；出气口，位于反应腔的上部或下部，用于排出废气，其特征在于，晶舟包括若干个格子，每个格子用于装载一片晶圆，按照从上到下的顺序相邻格子之间的间距为一等差数列；加热器按照从上到下的顺序分为5个温区，用于分别对反应腔的上部、上中部、中部、中下部和下部进行加热，所述5个温区的温度相等。

5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，当进气口位于反应腔的上部时，按照从上到下的顺序相邻格子之间的间距依次递增。

6.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，当进气口位于反应腔的下部时，按照从上到下的顺序相邻格子之间的间距依次递减。