[发明专利]一种组成和结构可设计的氧化钇基透明陶瓷的制备方法

权利要求书

1.一种组成和结构可设计的氧化钇基透明陶瓷的制备方法，包括如下步骤：

1)将含有不同掺杂含量的氧化钇粉体分别流延成膜；

2)将具有不同掺杂含量的流延膜根据需求加工成不同的形状，然后根据叠层设计进行叠层；

3)将叠层后的流延膜进行冷等静压处理，然后经脱粘处理后再次进行冷等静压处理；

4)将冷等静压处理后的样品进行真空烧结。

2.如权利要求1中所述的组成和结构可设计的氧化钇基透明陶瓷的制备方法，其特征在于，所述氧化钇基透明陶瓷中，以掺杂元素的摩尔数和钇元素的摩尔数之和计，所述掺杂元素的摩尔百分比为0.1～20at％。

3.如权利要求1中所述的组成和结构可设计的氧化钇基透明陶瓷的制备方法，其特征在于，所述步骤1)中的流延成膜包括如下具体步骤：

A、将氧化钇基粉体和掺杂粉体加入溶剂中，再加入分散剂，混料后制得固含量为30～55vol％的浆料；

B、将粘结剂加入步骤1)中制得的浆料中，粘结剂加入量为氧化钇粉与掺杂粉体总重量的3～20wt％；

C、再次球磨后，将混有粘结剂的浆料脱泡后在流延机上流延成膜。

4.如权利要求3中所述的组成和结构可设计的氧化钇基透明陶瓷的制备方法，其特征在于，所述步骤A中的掺杂粉体选自氧化钕、氧化镱、氧化钬、氧化铕、氧化铒和氧化镨中的一种或多种。

5.如权利要求3中所述的组成和结构可设计的氧化钇基透明陶瓷的制备方法，其特征在于，所述步骤A中的溶剂选自：水、丁酮或酒精。

6.如权利要求3中所述的组成和结构可设计的氧化钇基透明陶瓷的制备方法，其特征在于，所述步骤A中的分散剂选自：聚丙烯酸类分散剂、聚羧酸类分散剂、聚甲基丙烯酸类分散剂或邻苯二甲酸二丁酯分散剂。

7.如权利要求1中所述的组成和结构可设计的氧化钇基透明陶瓷的制备方法，其特征在于，所述步骤3)中的冷等静压的成型压力为70～250Mpa。

8.如权利要求1中所述的组成和结构可设计的氧化钇基透明陶瓷的制备方法，其特征在于，所述步骤3)的脱粘处理的具体步骤为：将成型后的样品放入马弗炉中脱粘，升温速度为1～5℃/分钟，脱粘温度为500～700℃。

9.如权利要求1中所述的组成和结构可设计的氧化钇基透明陶瓷的制备方法，其特征在于，所述步骤4)的真空烧结的具体步骤为：处理后样品放入真空炉中，在1700～1850℃烧结，真空度为10^-2～10^-5Pa，烧结时间为4～30h。

10.一种氧化钇基透明陶瓷，由权利要求1～9中所述的制备方法制得。