[发明专利]一种热解石墨复合涂层及其应用无效
| 申请号: | 200910195526.9 | 申请日: | 2009-09-11 | 
| 公开(公告)号: | CN101660137A | 公开(公告)日: | 2010-03-03 | 
| 发明(设计)人: | 刘够生;何志俊;盛勇;蹇民;于建国 | 申请(专利权)人: | 华东理工大学 | 
| 主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;B01J19/02;C01B25/40 | 
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| 地址: | 200237*** | 国省代码: | 上海;31 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 石墨 复合 涂层 及其 应用 | ||
【技术领域】
本发明涉及聚磷酸铵设备技术领域,具体地说,是一种热解石墨复合涂层及其应用。
【背景技术】
聚磷酸铵(简称APP)分子通式(NH4)n+2PnO3n+1,含磷量30~32%,含氮量14~16%,这类阻燃剂最突出的特征是燃烧时生烟量极低,磷氮体系产生协同效应,阻燃性好,阻燃过程中不产生卤化氢。APP热稳定性好,产品近于中性,并可与其它阻燃剂混用,分散性较好,消烟,毒性较低,使用安全,因此广泛应用于配制膨胀型阻燃剂、防火涂料、电缆防火处理、橡胶制品和塑料制品的阻燃。
对于结晶II型APP的制备方法,大多以P2O5和磷酸铵盐为起始原料,并在氨气气氛下进行,并大多以尿素为缩聚剂。P2O5化学性质活泼,对人体有一定的危险,且从黄磷工艺生产五氧化二磷能耗高、价格贵。
以磷酸或磷酸铵盐为起始原料,通过高温聚合反应制备结晶II型聚磷酸铵,一是因为传统的生产工艺,以磷酸或磷酸铵盐为原料的生产工艺大多只能生产低聚合度的结晶I型APP,二是因为高温磷酸或高温磷酸铵盐对设备的腐蚀性大,难以找到合适的反应器材质。
在中国专利公开CN101428780及中国专利申请200910048945.X中,提出了一种高聚合度结晶II型聚磷酸铵的制备方法,分别是以磷酸和磷酸氢二铵为初始原料,通过高温聚合反应制备高聚合度结晶II型聚磷酸铵。在上述二个专利的制备方法中,采用湿法磷酸和磷酸铵盐在高温条件下聚合,由于高温磷酸或高温磷酸铵盐对设备具有很强的腐蚀性,通过高温聚合反应制备结晶II型聚磷酸铵的设备,设备材质应满足如下性能要求:
(1)良好的热化学稳定性,防止磷酸与涂层反应;
(2)良好的抗高温性能,防止高温下分解或熔化;
(3)良好的抗腐蚀性能,防止高温下被磷酸腐蚀而影响反应;
(4)良好的导热性能,便于高温热传导。
石墨的化学性质稳定,耐腐蚀,与酸、碱等不易发生反应,具有良好的导热导电特性,耐高温3000℃、不软化、不熔融,热膨胀系数小,在高温下尺寸和机械性能稳定,耐热冲击性好,耐低温-204℃,抗氧化,不会因腐蚀而生成氧化层。但是石墨属于层状结构物质,层与层间距离大,层间范德华结合力小,各层间可以滑动,因此采用石墨制作的反应器,在与固体物质磨擦过程中,石墨表面石墨屑粉易于滑落而混入固体物质中,影响产品外观。
采用化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)是反应物质在气态条件下发生化学反应,生成固态物质沉积在加热的固态基体表面,进而制得固体材料的工艺技术,它本质上属于原子范畴的气态传质过程。热解石墨是一种新型炭素材料,工业化生产热解涂层石墨管是在炉温保持1800~2000℃和一定的真空度,在抽气的条件下,通入用氩气或氮气稀释的烃类化合物气体(如甲烷,丙烷),这些气体裂解后在石墨基体上,经化学气相沉积出的较高结晶取向的热解碳,由此制备复合涂层具有高温下强度高和刚度高、耐烧蚀、耐腐蚀、尺寸稳定性高、化学惰性、耐核辐射、耐疲劳、抗热震、磨擦系数稳定、低热膨胀系数以及良好的生物相容性等特点,是一种在航空、航天、电子材料、半导体、化工医药、生物医学等工业中有着广泛用途的石墨材料。
根据周序科(碳素,2000,(2):16-22)的描述,热解石墨复合涂层通过以下过程形成:
(1)碳氢化合物气体分子在高温区域(1800~1900℃)进行热分解,离解成自由基或碳氢化合物基团,并进行气态聚合反应,这些反应反复进行而生成各种各样的高聚合芳香化合物;
(2)在气相中生成的芳香化合物簇团,在超饱和蒸汽压状态下经数次合成反应成核,若晶核是稳定的,它将形成聚集体;
(3)这些可变形的球状生长单元的聚集体沉积到基体表面上以后,经过脱氢、熔化、结晶、凝固等过程,最终形成热解石墨。
热解石墨复合涂层具有以下特点:
(1)表面致密,无气孔,高密度(2.20g/cm3);
(2)高纯度(总杂质含量小于20ppm),气密性好;
(3)耐高温,强度随使用温度的升高而增加,2750℃时强度达到最高值,3600℃升华;
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





