[发明专利]发光元件及其制备方法有效
申请号: | 200910189930.5 | 申请日: | 2009-09-01 |
公开(公告)号: | CN102005511A | 公开(公告)日: | 2011-04-06 |
发明(设计)人: | 周明杰;马文波;刘玉刚 | 申请(专利权)人: | 海洋王照明科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人: | 张全文 |
地址: | 518052 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光 元件 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于发光元件技术领域,具体涉及一种发光元件及其制备方法。
背景技术
传统的作为发光基体的材料包括荧光粉、纳米晶体及玻璃等,相对于晶体和荧光粉而言,玻璃具有透明、坚硬及良好化学稳定性和光学性质;而且玻璃更容易被加工成各种大小形状的产品,以适用于不同形状或尺寸的显示器件或照明光源。
例如,在真空微电子学领域中,场发射器件通常利用发光玻璃作为发光体,其在照明及显示领域显示出了广阔的应用前景,引起国内外研究机构的广泛关注。场发射器件工作原理是:在真空环境下,阳极相对场发射阴极阵列(Fieldemissive arrays,FEAs)施加正向电压形成加速电场,阴极发射的电子加速轰向阳极板上的发光材料而发光。场发射器件的工作温度范围宽(-40℃~80℃)、响应时间短(<1ms)、结构简单、省电,符合绿色环保要求。另外,荧光粉体、发光玻璃、发光薄膜等材料都可以在场发射器件中作为发光材料使用,但它们都存在发光效率低这一本质问题,极大限制了场发射器件的应用,特别是在照明领域的应用。此外,通常在玻璃发光元件发光过程中,在阴极射线的辐照下,逐渐形成电荷积累而使发光玻璃的表面带负电并形成负电位,发光玻璃表面一旦形成负电位,阴极射线会受负电场作用,影响其到达发光基体表面,此时就会降低场发射器件的发光效率。
发明内容
有鉴于此,提供一种发光效率高和发光稳定可靠的发光元件,以及一种工艺简单、成本低的发光元件制备方法。
一种发光元件,其包括一个发光基体、形成于所述发光基体上的第一金属层以及形成于所述第一金属层上的第二金属层。所述第一金属层为非连续的薄膜,所述第二金属层为一层连续的薄膜。
以及,一种发光元件制备方法,其包括如下步骤:
获得发光基体;
在所述发光基体上形成第一金属层;
对所述发光基体和第一金属层进行真空退火处理,使所述第一金属层形成非连续的薄膜;及
在真空退火处理后的第一金属层上形成连续薄膜状的第二金属层,制得所述发光元件。
在上述发光元件中,在发光基体上具有非连续的薄膜的第一金属层和连续的薄膜状第二金属层,在阴极射线的激发下,非连续的薄膜的第一金属层与发光基体之间的界面形成表面等离子体,通过表面等离子体激元效应,使发光基体的内量子效率被大大提高,即发光基体内的发光材料自发辐射增强,进而大大增强了发光材料的发光效率。由于第二金属层是连续的薄膜,具有良好的表面导电性能,使激发发光材料发光的电子被迅速转移,保证发光元件能够持续稳定高效地发光,提高其发光稳定可靠性。
在上述发光元件制备方法中,通过在发光基体上形成两层金属层,对第一金属层进行退火处理,即可制得所述发光元件,该制备方法工艺简单、成本低,具有广阔的生产应用前景。
附图说明
下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明,附图中:
图1是本发明实施例的发光元件立体结构示意图;
图2是本发明实施例的发光元件制备方法流程图;
图3是本发明实施例1中具有第一金属层和第二金属层的发光元件、具有第一金属层的发光元件以及传统的玻璃发光元件发光强度的发光光谱图比较示意图;
图4是本发明实施例2中具有第一金属层和第二金属层的玻璃发光元件、具有第一金属层的发光元件和传统玻璃发光元件发光强度的发光光谱图比较示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
请参阅图1,显示本发明实施例的发光元件。该发光元件10包括发光基体1、形成于所述发光基体1上的第一金属层2以及形成于所述第一金属层2上的第二金属层3。第一金属层2为非连续的薄膜,优选为金属纳米级离散岛状结构。第二金属层3为一层连续的薄膜。
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