[发明专利]一种无铅陶瓷釉料及其制备工艺无效

专利信息
申请号: 200910189088.5 申请日: 2009-12-18
公开(公告)号: CN101759440A 公开(公告)日: 2010-06-30
发明(设计)人: 刘权辉;姜兆岭;刘权耀 申请(专利权)人: 深圳市永丰源实业有限公司
主分类号: C04B41/86 分类号: C04B41/86
代理公司: 深圳市科吉华烽知识产权事务所 44248 代理人: 胡吉科
地址: 518000 广东省深圳市宝安*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 陶瓷 釉料 及其 制备 工艺
【说明书】:

技术领域

发明涉及陶瓷材料技术领域,尤其是涉及一种无铅陶瓷釉料及其制备工艺。

背景技术

陶瓷釉对陶瓷制品的外观质量有着重要影响。目前我国大多数陶瓷制品因釉面有气孔、气泡,表面光泽度差而导致产品档次不高,质量差。一些外观要求较高的高档陶瓷制品大多采用熔点低、弹性模量大、光泽度高的含铅釉料。然而铅是重金属,对人体和环境是有害的。随着人们对铅及其化合物毒性认识的深入和环保意识的提高,各国对铅的含量和使用有越来越严格的限制。

虽然现有的陶瓷釉料技术中也出现的一些不含铅的陶瓷釉料配方,但是这些配方基本上主要应用于高端骨瓷,使用的范围受到较大的局限。而且釉料中含有Zn的成分较高,对诸如黑色、粉红、咖啡色等色泽的发色存在较大的负面影响,从而限制了产品的丰富性。或者一些无铅釉料中含有重金属Bi2O3,氧化铋和氧化铅同属重金属,具有一定毒性,且其价格昂贵。现有的无铅釉料配方,还存在釉烧范围都较窄,容易造成欠烧或者过烧的缺陷。

发明内容

本发明的目的之一在于提供一种无铅的、釉烧范围宽,釉面硬度高的陶瓷釉料,解决现有技术存在的缺陷。

为实现上述目的,本发明采用如下技术方案:

一种无铅陶瓷釉料,包括如下组分及其百分含量(WT%):

8iO250~65%,Al2O36~12%,CaO 4~10%,MgO 0~5%,BaO 0~5%,SrO 0.5~5%,ZnO 3~8%,K2O 1~6.5%,Na2O 1~5%,Li2O 0.5~5%,B2O31~8%,ZrO20~4%,La2O30.2~4%。

优选的方案是:包括如下组分及其百分含量(WT%,重量百分比):

SiO260~65%,Al2O38~10%,CaO 6~8%,MgO 1~2%,BaO 1~3%,SrO 0.5~3%,ZnO 3~6%,K2O 1~5%,Na2O 1~4%,Li2O 0.5~3%,B2O33~5%,ZrO22~4%,La2O30.5~3%。

发明所选的技术方案中,通过大量的探索,发现ZnO的含量(WT%)在3~8%范围时,对黑色、蓝绿色、粉红、玛瑙红、棕色、咖啡色等陶瓷常用的颜色的发色影响很小,甚至可以达到没有造成影响的程度。

发明所选的技术方案中,将SiO2的含量(WT%)控制在50~65%,优选为60~65%,对釉烧后的陶瓷的釉面硬度有着显著的提高,而且有着十分理想的光泽度。

本发明在探索过程中,发现无铅的釉料通常存在一个烧制温度范围较窄,容易出现欠烧或者过烧的问题,本发明的技术方案通过添加稀土化合物La2O3,可以明显改善烧制的温度范围,尤其是La2O3的含量(WT%)在0.2~4%效果极为理想,其温度烧制范围可以达到1020℃-1180℃。

本发明所述的无铅陶瓷釉料,主要应用于高端的骨质瓷。应用于其它,诸如白瓷等素坯烧制后,对其色泽和硬度等也带来很不错的改善。

本发明的目的之二在于提供一种制备无铅陶瓷釉料的工艺,采用如下技术方案:

一种制备前一发明目的所述的无铅陶瓷釉料的工艺,包括如下步骤:

(1)取200目或更细的网筛过筛的石英粉25~45%,200目或更细的网筛过筛的钾长石粉:20~40%,硼砂2~20%,氧化锌2~7%,硅酸锆0~5%,氧化镧0.1~3%,碳酸钙6~16%,碳酸镁0~8%,碳酸钡0~5%,碳酸锶0.5~6%,碳酸锂2~10%;

(2)将步骤1所述原料混合均匀后,在1380℃~1450℃熔化,放入冷水中水淬制成熔块;

(3)将熔块装入球磨机中,加水和0~18%的高岭土或其它釉浆性能调节剂研磨成釉浆,细度控制在万孔筛余0.01~0.05%。

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