[发明专利]纳米粒子制备及与粉体材料原位复合装置

权利要求书

1.一种纳米粒子制备及与粉体材料原位复合装置，其特征在于，该装置包括纳米颗粒制备系统、纳米颗粒/粉体材料复合系统及进样/取样系统，其中：

纳米颗粒制备系统设有真空室、离子源、转靶，离子源一端伸入真空室内，转靶设置于真空室内、与离子源的溅射方向相对应，离子源另一端连有离子源电源和高纯氩气体钢瓶；

复合系统设有反弹盘，反弹盘设置于真空室内的下方，与转靶反射的方向相对应；

进样/取样系统设有手套操作箱，真空室一侧的密封舱门伸到手套操作箱中，手套操作箱上连有机械泵、循环净化系统和高纯惰性气体钢瓶。

2.按照权利要求1所述的纳米粒子制备及与粉体材料原位复合装置，其特征在于：反弹盘采用机械、压电陶瓷振荡或电磁激励，反弹盘在溅射过程中轴向震动、轴向小角度倾转或径向往复运动，具有多维/多模式运动特征。

3.按照权利要求1所述的纳米粒子制备及与粉体材料原位复合装置，其特征在于：真空室上连有分子泵和机械泵。

4.按照权利要求1所述的纳米粒子制备及与粉体材料原位复合装置，其特征在于：密封舱门所在的真空室开口处设有样品传输机构，可往复移动的样品传输机构分别与手套操作箱和反弹盘相对应。

5.按照权利要求1所述的纳米粒子制备及与粉体材料原位复合装置，其特征在于：离子源伸入真空室内的一端前部设置离子源挡板。

6.按照权利要求1所述的纳米粒子制备及与粉体材料原位复合装置，其特征在于：真空室内设有红外加热单元。