[发明专利]磁浮自重下料的底盖处理装置有效

专利信息
申请号: 200910186854.2 申请日: 2009-12-28
公开(公告)号: CN101786551A 公开(公告)日: 2010-07-28
发明(设计)人: 李炳兴 申请(专利权)人: 吴江市华源印铁制罐有限责任公司
主分类号: B65G54/02 分类号: B65G54/02;B25J15/06
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 孙仿卫
地址: 215236 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 自重 处理 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种金属罐的底盖处理装置,尤其涉及一种磁浮自重下料的底盖处理装置。

背景技术

现有技术对底盖的生产过程中,底盖各项作业必须配备相应的人员以全手工送料的方式来实现,底盖无法从落料储存器(可以把底盖一个挨一个叠加整齐放置在内的垂直装置)做到一个接一个的自动分离下料输送至工作台,更无法把底盖的预弯,罩边,注胶等作业流程以全自动的方式来实现,人员劳动强度高,生产效率较低,次品率高。

发明内容

本发明的目的是提供一种底盖处理装置,该底盖处理装置中可实现底盖处理工艺的自动化流水线作业。

本发明所采取的技术方案是:一种磁浮自重下料的底盖处理装置,该装置包括底盖处理单元、落料储存器、输送带,所述的落料储存器内设有磁悬浮卸料设备,所述的磁悬浮卸料设备的内侧具有供底盖自上而下落下的底盖通道,当所述的磁悬浮卸料设备工作时,所述的磁悬浮卸料设备产生的悬浮力只能将预设数量的底盖悬浮在所述的底盖通道内,所述的输送带与所述的底盖通道的上端相连接,所述的底盖处理单元设置在所述的落料储存器的下游,所述的落料储存器的下端设置有用于将从所述的底盖通道内落下的底盖送到所述的底盖处理单元处的机械手;当所述的底盖通道内滞留的底盖数量大于所述的磁悬浮卸料设备)预设能悬浮起的底盖数量时,受重力作用位于所述的底盖通道下部的部分底盖将从所述的底盖通道的下端落下,并由所述的机械手送至所述的底盖处理单元处。

优选地,所述的底盖处理单元包括预弯工模、罩边工模、注胶工模,并且它们依次设置在落料储存器的下游。

优选地,所述的机械手包括用于吸住底盖的真空吸盘以及给真空吸盘提供移动动力的推进器。

通过实施以上技术方案,本发明的底盖处理装置改变了以往因为底盖手工送料而无法实现自动处理底盖(如预弯、罩边和注胶多工位流水线)加工的现状,底盖自动卸料的应用可大大减少操作人员的数量及对手工参与的依赖性,同时也极大降低了劳动强度,显著提高了工效与产品质量;另外也提高了操作的安全性,设备更容易保养。

附图说明

附图1为本发明的底盖处理装置的示意图。

其中:1、输送带;2、落料储存器;3、预弯工模;4、罩边工模;5、注胶工模;6、机械手;7、输出带;8、悬浮卸料装备;9、底盖通道;10、真空吸盘;11、推进器。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步的说明:

如图1所示,一种底盖处理装置,它包括底盖处理单元、落料储存器2、输送带1和输出带7。底盖处理单元包括预弯工模3、罩边工模4、注胶工模5,并且它们依次设置在落料储存器2的下游。落料储存器2内设有磁悬浮卸料设备8,磁悬浮卸料设备8的内侧具有供底盖自上而下落下的底盖通道9,当磁悬浮卸料设备8工作时,磁悬浮卸料设备8产生的悬浮力只能将预设数量的底盖悬浮在底盖通道9内,如可以设计仅能悬浮20个底盖。输送带1与底盖通道9的上端相连接,底盖处理单元设置在落料储存器2的下游,落料储存器2的下端设置有用于将从底盖通道9内落下的底盖送到底盖处理单元处的机械手6。机械手6包括用于吸住底盖的真空吸盘10以及给真空吸盘10提供移动动力的推进器11。

当底盖通道9内滞留的底盖数量大于磁悬浮卸料设备8预设能悬浮起的底盖数量时,受重力作用位于底盖通道9下部的部分底盖将从底盖通道9的下端落下,并由机械手6送至底盖处理单元处进行处理。

当将待加工的底盖通过输送带1不断送入落料储存器2内的底盖通道9内时,随着底盖的积累,当底盖通道9内滞留的底盖数量大于磁悬浮卸料设备8预设能悬浮起的底盖数量时,由于重力作用,位于底盖通道9最下面的底盖将落下,并且由于底盖是按一定的间距一个一个的输入到底盖通道9内的,所以从低端落下的底盖也将按一定的间距向下分离排列,一个接一个下料,落下的底盖由机械手6上的真空吸盘10吸住后在推进器11的驱动下依次送至预弯工模3、罩边工模4、注胶工模5处进行预弯、罩边、注胶等工序的加工,最后由输出带7送出。

本实施例通过采用全新的磁悬浮卸料设备8对底盖进行一个个间隔卸料,彻底解决了以往底盖必须要依靠人工才能实现按一定间距分离,从而实现了预弯,罩边,注胶等工艺的自动化流水线作业。

上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并加以实施,并不能以此限制本发明的保护范围,凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本发明的保护范围内。

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