[发明专利]光波导用组合物及其制造方法、光波导及其制造方法无效
| 申请号: | 200910177997.7 | 申请日: | 2009-10-23 | 
| 公开(公告)号: | CN101726763A | 公开(公告)日: | 2010-06-09 | 
| 发明(设计)人: | 平山智之;平野敬祐;疋田贵巳 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 | 
| 主分类号: | G02B1/04 | 分类号: | G02B1/04;G02B6/10;G02B6/13 | 
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 | 
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 波导 组合 及其 制造 方法 | ||
1.一种光波导用组合物,其含有:
(A)用有机硅低聚物和有机硅低聚物聚合物对氧化锆微粒进行了表面修饰的氧化锆微粒体;和
(B)光产酸剂。
2.根据权利要求1所述的光波导用组合物,其中,在用于芯部形成时的光波导用组合物中,(A)的氧化锆微粒的含量超过组合物总量的0重量%、且为40重量%以下,并且用于包层形成时的光波导用组合物中的(A)的氧化锆微粒的含量被设定为少于用于上述芯部形成的光波导用组合物中的(A)的氧化锆微粒的含量。
3.一种光波导用组合物的制造方法,该方法包含以下工序:
在氧化锆微粒的水分散液中混合有机硅低聚物,在酸性区域下,使上述有机硅低聚物聚合,生成有机硅低聚物聚合物,并用上述有机硅低聚物和有机硅低聚物聚合物对上述氧化锆微粒进行表面修饰,从而使上述有机硅低聚物和有机硅低聚物聚合物结合到上述氧化锆微粒的外周面,调制氧化锆微粒体(A)的工序;
在上述氧化锆微粒体(A)中配合光产酸剂(B)的工序。
4.根据权利要求3所述的光波导用组合物的制造方法,其中,酸性区域为pH2~4的范围。
5.一种光波导,其特征在于,所述光波导具备基板和形成于该基板上的包层,并在上述包层中按照规定图案形成有传输光信号的芯部,其中,上述包层和芯部中的至少一者是由权利要求1或2所述的光波导用组合物形成的。
6.一种光波导的制造方法,其特征在于,其具备以下工序:
在氧化锆微粒的水分散液中混合有机硅低聚物,在酸性区域下,使上述有机硅低聚物聚合,生成有机硅低聚物聚合物,并用上述有机硅低聚物和上述有机硅低聚物聚合物对上述氧化锆微粒进行表面修饰,从而使上述有机硅低聚物和有机硅低聚物聚合物结合到上述氧化锆微粒的外周面,分别调制第1和第2氧化锆微粒体的工序;
在上述第1氧化锆微粒体中配合光产酸剂,从而调制用于芯部形成的光波导用组合物(α)的工序;
在上述第2氧化锆微粒体中配合光产酸剂,从而调制用于包层形成的光波导用组合物(β)的工序;
在基板上涂布上述组合物(β),形成上述组合物(β)的下包层前体层,并对该下包层前体层进行曝光,从而形成下包层的工序;
在上述下包层上涂布上述组合物(α),形成上述组合物(α)的芯前体层,并将该芯前体层曝光为规定图案,然后对未曝光部分进行显影和除去,从而形成芯部的工序;
在形成有上述规定图案的芯部的下包层上以包含芯部的方式涂布上述组合物(β),形成上述组合物(β)的上包层前体层,并对该上包层前体层进行曝光,从而形成上包层的工序。
7.根据权利要求6所述的光波导的制造方法,其中,相对于组合物(α)总量,上述组合物(α)中的氧化锆微粒的含量超过0重量%、且为40重量%以下,
并且上述组合物(β)中的氧化锆微粒的含量被设定为少于上述组合物(α)中的氧化锆微粒的含量。
8.根据权利要求6或7所述的光波导的制造方法,其中,在曝光后,对组合物(β)的下包层前体层进一步加热,从而形成下包层。
9.根据权利要求6或7所述的光波导的制造方法,其中,在显影后,对上述组合物(α)的芯前体层进一步加热,从而形成芯部。
10.根据权利要求6或7所述的光波导的制造方法,其中,在曝光后,对上述组合物(β)的上包层前体层进一步加热,从而形成上包层。
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