[发明专利]配向基板和制造该配向基板的方法

权利要求书

1、一种配向基板，包括：

包括多个单位像素区的基板，每个单位像素区都包括以矩阵结构布置的多个子像素区；以及

在所述基板上的配向层，所述配向层具有从所述该配向层的表面突出的聚合物链，所述配向层具有多个配向矢量，在所述配向矢量中所述聚合物链根据所述子像素区预倾斜，相应于相邻子像素区的配向矢量指向彼此不同的方向。

2、如权利要求1所述的配向基板，其中该聚合物链被朝列方向倾斜的第一紫外光和朝基本垂直于所述列方向的行方向倾斜的第二紫外光光配向，每个配向矢量都具有相应于所述列方向的x分量、相应于所述行方向的y分量以及相应于基本垂直于所述列方向和所述行方向的方向的z分量，投影在由所述列方向和所述行方向限定的表面上的相邻子像素的配向矢量基本彼此垂直。

3、如权利要求2所述的配向基板，其中沿所述列方向布置的相邻子像素区的所述配向矢量具有指向彼此相同方向的x分量和指向彼此相反方向的y分量，沿所述行方向布置的相邻子像素区的所述配向矢量具有指向彼此相反方向的x分量和指向彼此相同方向的y分量。

4、如权利要求3所述的配向基板，其中每个单元像素包括沿基本平行于所述列方向的第一行布置的第一子像素区和第二子像素区，以及沿基本平行于所述列方向的第二行布置的第三子像素区和第四子像素区，所述第一子像素区、所述第二子像素区、所述第三子像素区和所述第四子像素区的被投影的配向矢量彼此不同并且指向相对于正列方向约±45°和约±135°的方向之一。

5、如权利要求4所述的配向基板，其中所述第一子像素区、所述第二子像素区、所述第三子像素区和所述第四子像素区的被投影的配向矢量沿顺时针方向旋转或者沿逆时针方向旋转。

6、如权利要求4所述的配向基板，其中所述第一子像素区、所述第二子像素区、所述第三子像素区和所述第四子像素区的被投影的配向矢量分别指向相对于所述正列方向约135°、约45°、约-135°和约-45°的方向。

7、一种制造配向基板的方法，该方法包括：

提供基板，该基板包括多个单位像素区，每个单位像素区都包括以矩阵结构布置的多个子像素区；

在所述基板上形成光反应聚合物层；以及

将倾斜的偏振光照射至所述光反应聚合物层以形成配向层，所述配向层具有多个配向矢量，在所述配向矢量中从所述光反应聚合物层突出的聚合物链根据所述子像素区预倾斜。

8、如权利要求7所述的方法，其中所述光反应聚合物层被朝列方向倾斜的第一紫外光和朝基本垂直于所述列方向的行方向倾斜的第二紫外光光配向，每个配向矢量都具有相应于所述列方向的x分量、相应于所述行方向的y分量以及相应于基本垂直于所述列方向和所述行方向的方向的z分量，投影至由所述列方向和所述行方向限定的表面上的相邻子像素的配向矢量基本互相垂直。

9、如权利要求8所述的方法，其中沿所述列方向布置的相邻子像素区的所述配向矢量具有指向彼此相同方向的x分量和指向彼此相反方向的y分量，沿所述行方向布置的相邻子像素区的所述配向矢量具有指向彼此相反方向的x分量和指向彼此相同方向的y分量。

10、如权利要求9所述的方法，其中将倾斜的偏振光照射至所述光反应聚合物层包括穿过掩模将所述倾斜的偏振光照射至所述光反应聚合物层，所述掩模包括覆盖部分单位像素区的光阻挡区域以及露出所述单位像素区的剩余部分的透光区域。