[发明专利]抗反射膜和包括其的偏振板

说明书

技术领域

本发明总体上涉及抗反射膜和包括其的偏振板(polarizing plate)，并且更具体而言涉及通过使反射光谱波长的振幅减小而具有优异的彩虹效应(rainbow effect)和非常低的反射率的抗反射膜以及包括其的偏振板。

背景技术

通常，抗反射膜用于各种图像显示装置例如液晶显示器(LCD)、等离子体显示面板(PDP)、电致发光显示器(ELD)和阴极射线管显示器(CRT)中。抗反射膜还用于眼镜片和照相机。对于这样的抗反射膜，通常使用具有透明金属氧化物薄层的叠层的多层抗反射膜。这种薄的透明多层用于防止在可见光范围的尽可能宽的波长范围内的光反射。

所述透明金属氧化物薄膜通过化学气相沉积(CVD)或者物理气相沉积(PVD)，尤其是通过被归类为PVD技术的真空沉积或者溅射方法形成。虽然所述透明金属氧化物薄膜作为抗反射涂层呈现优异的光学性质，但是用于形成这些膜的真空沉积和溅射方法造成低的生产率并且不适合于大规模制造。

已提出将通过用无机颗粒进行湿法涂覆而形成抗反射膜的方法作为气相沉积技术的替代方案。例如，JP-B-60-59250公开了通过涂覆而获得的含有颗粒状无机物质并且具有微孔(microvoid)的抗反射层。具有这种微孔的抗反射层是通过对涂覆组合物进行涂布并且用活性气体(activated gas)对涂覆层进行处理而获得的。JP-A-2-245702公开了含有两种或更多种超细颗粒(例如，MgF₂和SiO₂)的抗反射膜。使所述颗粒的混合比在膜厚度方向上变化以改变折射率，从而实现与JP-A-59-50401中包括高折射率层/低折射率层组合的抗反射膜的光学性质类似的光学性质。所述超细颗粒与由硅酸乙酯的热分解得到的SiO₂结合。硅酸乙酯的热分解伴有乙基部分的燃烧从而产生二氧化碳和蒸汽，二氧化碳和蒸汽从所述涂覆层释放而在所述超细颗粒之间留下空隙。此外，JP-A-5-13021提出用粘合剂填充超细颗粒之间的上述空隙。JP-A-7-48527公开了含有粘合剂和颗粒无机物质的抗反射膜，所述颗粒无机物质包括多孔二氧化硅。JP-A-11-6902描述了用于以低成本制造具有高的膜强度和低反射的抗反射膜的全湿法涂覆技术，其公开了具有通过湿法涂覆形成的三层抗反射层的膜，其中在低折射率层上堆叠至少两种无机颗粒以形成含有微孔的层。此外，如JP-A-2000-275401和JP-A-2000-275404所述，用于赋予通过湿法涂覆技术形成的抗反射膜以防眩光性质的已知方法包括：用抗反射层覆盖具有表面不均匀性的基底、将用于造成表面不均匀性的消光(matting)颗粒引入到抗反射层中、和对光滑的抗反射膜进行压花(emboss)以形成表面不均匀性。

然而，通过真空沉积或者溅射形成的在450～650nm波长范围内具有0.4％或者更低的平均反射率的抗反射膜使得反射光强烈地变色为带红色到带蓝色的紫色，并且如果光源在观察者之后，则这种变色的反射光损害显示质量。另一方面，通过湿法涂覆形成的抗反射膜尽管具有几乎中和色(neutral color)的反射光，但其具有超过1％的平均反射率，这在抗反射性能方面特别是在其中外部光直接入射在显示面上的应用方面是不够的。

发明内容

因此，设计本发明以解决上述问题。本发明的目的是提供通过使反射光谱波长的振幅减小而具有优异的反射外观和非常低的反射率的抗反射膜以及包括其的偏振板。

本发明的这些和其它目的和优点将从本发明的以下具体描述而明晰。

以上目的通过抗反射膜而实现，该抗反射膜包括：用于保护聚乙烯醇(PVA)偏振片(polarizer)的三醋酸纤维素(TAC)透明基底；涂覆在所述透明基底上的高折射率的高硬度层，所述高折射率的高硬度层具有1.50～1.60的折射率和抗静电功能；和涂覆在所述高折射率的高硬度层上的低折射率层，所述低折射率层具有1.31～1.40的折射率并且是湿法涂覆的，其中所述抗反射膜在480～680nm波长范围内在5°的入射角下具有0.1～0.4％的平均镜面反射率。

此处，所述抗反射膜具有10⁴～10¹⁰的抗静电指数。

优选所述高折射率的高硬度层具有0.1～20μm的厚度并且所述低折射率层具有90～130nm的厚度。