[发明专利]用于辐射吸收和检测的半导体材料有效

专利信息
申请号: 200910175518.8 申请日: 2009-09-17
公开(公告)号: CN101710594A 公开(公告)日: 2010-05-19
发明(设计)人: B·A·克罗西尔;A·艾万;D·B·麦德维特 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: H01L31/02 分类号: H01L31/02;G01T1/24
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 庞立志;韦欣华
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用于 辐射 吸收 检测 半导体材料
【权利要求书】:

1.用于辐射吸收和检测的半导体材料,其包括化学计量LiM2+GV的并且显示出反萤石型排序的三元组成,其中化学计量部分是Li=1, M2+=1,和GV=1,其中M2+选自由以下组成的组:Be、Mg、Ca、Sr、 Ba、V、Cr、Mn、Fe、Ru、Os、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Zn、Cd、 Hg、Sn和Pb;其中GV选自由以下组成的组:N、P、As、Sb、Bi;其 中Li包括6Li;并且

其中电子空穴对通过辐射吸收产生,并且电子空穴对通过产生电流 脉冲来检测。

2.用于辐射吸收和检测的半导体材料,其包括化学计量LiM2+GV的并且显示出反萤石型排序的三元组成,其中化学计量部分是Li=1, M2+=1,和GV=1,其中M2+选自由以下组成的组:Be、Mg、Ca、Sr、 Ba、V、Cr、Mn、Fe、Ru、Os、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Zn、Cd、 Hg、Sn和Pb;其中GV选自由以下组成的组:N、P、As、Sb、Bi;其 中Li基本上由7Li组成;并且

其中电子空穴对通过辐射吸收产生,并且电子空穴对通过产生电流 脉冲来检测。

3.根据权利要求1或2的材料,其中M2+和GV都具有小于0.1靶 的热中子横截面。

4.根据权利要求1或2的材料,其中该材料吸收光子用于产生电 能。

5.根据权利要求1的材料,其中该材料吸收中子用于产生电能。

6.根据权利要求1或2的材料,其中该材料掺杂以用作Li、M2+或GV的受体或供体的元素,由此产生p-型或n-型半导体。

7.根据权利要求6的材料,其中用作受体或供体的元素选自由以 下组成的组:Li、Na、K、Rb、Be、Mg、Cu、Ag、Au、B、Al、Ga、 In、Sc、Y、C、Si、Ge、Sn、O、S、Se和Te。

8.用于辐射吸收和检测的半导体材料,其包括化学计量Li(M12+, M22+,M32+,...)(G1V,G2V,G3V,...)的并且显示出反萤石型排序的混合组 成,其中化学计量部分是Li=1,(M12++M22++M32++...)=1,和(G1V+ G2V+G3V+...)=1,其中(M12+,M22+,M32+,...)选自由以下组成的组:Be、 Mg、Ca、Sr、Ba、V、Cr、Mn、Fe、Ru、Os、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、 Cu、Zn、Cd、Hg、Sn和Pb,和其组合;其中(G1V,G2V,G3V,...)选自由 以下组成的组:N、P、As、Sb、Bi和其组合;其中Li包括6Li;并且

其中电子空穴对通过辐射吸收产生,并且电子空穴对通过产生电流 脉冲来检测。

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