[发明专利]气体供给装置及块状凸缘无效
| 申请号: | 200910174923.8 | 申请日: | 2009-11-03 |
| 公开(公告)号: | CN101725752A | 公开(公告)日: | 2010-06-09 |
| 发明(设计)人: | 井上贵史;西村康典 | 申请(专利权)人: | 喜开理株式会社 |
| 主分类号: | F16K27/00 | 分类号: | F16K27/00 |
| 代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 高培培;车文 |
| 地址: | 日本爱知*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 气体 供给 装置 块状 凸缘 | ||
1.一种气体供给装置,具有第一线路及第二线路,该第一线路与 第一质量流控制器连接,该第二线路与第二质量流控制器连接,该第 一线路具有供给气体A的第一开闭阀及供给气体C的第二开闭阀,该 第二线路具有供给气体B的第三开闭阀及供给气体D的第四开闭阀, 其特征在于,
所述气体A和所述气体B是同一气体,
具有块状凸缘,该块状凸缘被安装于所述开闭阀的下表面所安装 的歧管块的下表面,
所述块状凸缘具有:(a)与管连接的连接口;(b)凸缘连通路, 将形成于所述歧管块并与所述开闭阀连接的歧管连通路和所述连接口 连通;以及(c)用于确保所述管通过的空间的管避让部,
所述管相对于所述气体流动方向正交或者平行地配置,位于形成 于所述块状凸缘的下表面的所述管避让部。
2.如权利要求1所述的气体供给装置,其特征在于,
在回路的排气侧具有流量检测系统。
3.如权利要求1或权利要求2所述的气体供给装置,其特征在于,
所述块状凸缘在纵方向、横方向的任一方向上都能够安装于所述 歧管块上。
4.一种块状凸缘,在权利要求1所述的气体供给装置中使用,被 安装于开闭阀上所安装的歧管块的下表面,其特征在于,
所述块状凸缘具有:
与管连接的连接口;
凸缘连通路,将与形成于所述歧管块的所述开闭阀连接的歧管连 通路和所述连接口连通;以及
用于确保所述管通过的空间的管避让部。
5.如权利要求4所述的块状凸缘,其特征在于,
所述块状凸缘在纵方向、横方向的任一方向上都能够安装于所述 歧管块上。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于喜开理株式会社,未经喜开理株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910174923.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





