[发明专利]玻璃粉组合物、光敏障壁糊、PDP和PDP的制法

说明书

相关专利申请的交叉引用

本申请要求2008年9月11日提交的美国临时专利申请No.61/096,251 和2009年6月24日提交的美国专利申请No.12/491,189的优先权，其公开 内容全部引入本文作为参考。

背景技术

目前可用于形成PDP障壁的方法的实例包括喷砂法、化学蚀刻法和光 刻法。这些方法与用于使各种障壁结构显影的各种技术一起进行以获得高质 量图像、简化制造过程和降低制造成本、以及减少废物。

对于光刻法，在烧结介电层糊之前，涂覆用于形成障壁的糊并对该用于 形成障壁的糊进行曝光和显影过程，然后同时烧结该介电层糊和经显影的用 于形成障壁的糊。同时，对于喷砂法和化学蚀刻法，在蚀刻用于形成障壁的 糊之前烧结介电层。这是由于在喷砂法和化学蚀刻法中蚀刻用于形成障壁的 糊可损坏介电层的事实。在涂覆介电层糊和用于形成障壁的糊之前已形成的 基板或电极可由于热而变形或损坏。因此，为了防止这种变形和损坏，应使 烧结过程的次数最小化。由于这些原因，光刻法相对于喷砂法和化学蚀刻法 是有利的。光刻法简单并且可用于形成固定的障壁。

由于光敏障壁通过曝光过程形成，因此用于形成障壁的糊可由具有类似 于光敏有机材料的折射率的材料组成。如果形成用于形成障壁的糊的玻璃粉 具有不同于光敏有机材料的折射率，则不期望的区域可暴露于折射光。

本实施方式克服相关领域中的以上问题并且还提供额外的优点。

发明内容

一些实施方式涉及玻璃粉组合物，其包括约40至约70重量份的量的 P₂O₅、约1至约20重量份的量的BaO、SrO或其混合物、约1至约30重量 份的量的ZnO和约1至约15重量份的量的Al₂O₃。

在一些实施方式中，该组合物的平均光折射率为约1.5至约1.6。

在一些实施方式中，该玻璃粉为用于形成光敏障壁的组合物。

在一些实施方式中，该组合物基本上不含Pb或Bi。

一些实施方式进一步包括选自Li₂O、Na₂O和K₂O的碱金属氧化物，其 中该碱金属氧化物的量为3重量份或更少。

在一些实施方式中，该组合物进一步包括约1至约15重量份的量的 B₂O₃。

在一些实施方式中，该组合物进一步包括约5重量份或更少的量的SiO₂。

在一些实施方式中，该组合物的热膨胀系数为约70×10^-7/℃至约85×10^-7/ ℃。

一些实施方式涉及光敏障壁糊，包括：

玻璃粉组合物，其包括约40至约70重量份的量的P₂O₅、约1至约20 重量份的量的BaO、SrO或其混合物、约1至约30重量份的量的ZnO和约 1至约15重量份的量的Al₂O₃，

填料，和

光敏有机材料，

其中该玻璃粉组合物的折射率为约1.5至约1.6，和

其中该光敏有机材料的折射率为约1.5至约1.6。

在一些实施方式中，该玻璃粉组合物基本上不含Pb或Bi。

在一些实施方式中，该玻璃粉组合物进一步包括选自Li₂O、Na₂O和K₂O 的碱金属氧化物，其中该碱金属氧化物的量为约3重量份或更少。

在一些实施方式中，该玻璃粉组合物进一步包括约1至约15重量份的 量的B₂O₃。

在一些实施方式中，该玻璃粉组合物进一步包括约5重量份或更少的量 的SiO₂。

在一些实施方式中，其中该玻璃粉组合物的热膨胀系数为约70×10^-7/℃ 至约85×10^-7/℃。

一些实施方式涉及等离子体显示面板，包括：

障壁，其包括：