[发明专利]预成型件组及光学元件的制造方法有效

专利信息
申请号: 200910172052.6 申请日: 2009-09-03
公开(公告)号: CN101666884A 公开(公告)日: 2010-03-10
发明(设计)人: 池西干男 申请(专利权)人: HOYA株式会社
主分类号: G02B1/00 分类号: G02B1/00;C03C3/247;C03B19/02;C03B17/00;C03B11/00;C03B5/16
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 蒋 亭;苗 堃
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 成型 光学 元件 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种预成型件组,由多个精密加压成型用预成型件构成,所述 精密加压成型用预成型件由含有磷、氧和氟作为玻璃成分的氟磷酸玻璃 形成,其中,所述玻璃以阳离子%表示,含有:

其中,Mg2+、Ca2+、Sr2+和Ba2+的总含量为10%以上,还含有:

并且,以阴离子%表示,还含有:

F-   20~95%、

O2-  5~80%,

并且,所述氟磷酸玻璃是O2-含量相对于P5+含量的摩尔比O2-/P5+为3.50以上的氟磷酸玻璃,并且不添加Cu的离子。

2.根据权利要求1所述的预成型件组,其中,所述氟磷酸玻璃在 将磷成分换算成P5+时含有超过3阳离子%且在30阳离子%以下的磷,核 磁共振波谱中的在31P的基准频率附近产生的共振峰的一次边带峰的强度 I(1)与所述共振峰的强度I(0)之比I(1)/I(0)为0.08以下。

3.根据权利要求1所述的预成型件组,其中,所述氟磷酸玻璃在 将磷成分换算成P5+时含有30~50阳离子%的磷,核磁共振波谱中的在31P 的基准频率附近产生的共振波谱的形状是高斯函数形状。

4.一种预成型件组,由多个精密加压成型用预成型件构成,所述 精密加压成型用预成型件由含有磷、氧和氟作为玻璃成分的氟磷酸玻璃 形成,其中,所述玻璃以阳离子%表示,含有:

并且,所述氟磷酸玻璃是O2-含量相对于P5+含量的摩尔比O2-/P5+为3.50以上的氟磷酸玻璃,并且不添加Cu的离子。

5.根据权利要求4所述的预成型件组,其中,所述玻璃以阳离子% 表示,含有:

6.根据权利要求1~5中任一项所述的预成型件组,其中,在将该 玻璃的折射率nd的值设为nd(1),将该玻璃在氮气气氛中以900℃再熔 融1小时,冷却到玻璃化转变温度,然后以每小时30℃的降温速度冷却 到25℃后的折射率nd的值设为nd(2)时,nd(1)与nd(2)之差nd(2)-nd(1)的绝对值为0.00300以内。

7.根据权利要求1~5中任一项所述的预成型件组,其中,所述玻 璃的阿贝数vd超过70。

8.根据权利要求7所述的预成型件组,其中,所述玻璃的阿贝数vd 超过78。

9.根据权利要求1~5中任一项所述的预成型件组,其中,所述玻 璃,作为阳离子成分而含有的稀土元素的总含量小于5阳离子%,作为 阴离子成分而含有的F-的含量相对于F-和O2-的总含量的摩尔比F-/(F -+O2-)为0.2以上,折射率nd超过1.53。

10.根据权利要求1~5中任一项所述的预成型件组,其中,所述玻璃 的F-含量为65阴离子%以上。

11.根据权利要求1~5中任一项所述的预成型件组,其中,所述玻璃 的内部所含的粒径10μm以上异物的数密度小于5个/cm3

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