[发明专利]光波导路装置的制造方法和由该方法获得的光波导路装置

说明书

技术领域

本发明涉及光通讯、光信息处理、其它一般光学中广泛使 用的光波导路装置的制造方法和由该方法获得的光波导路装 置。

背景技术

光波导路装置的光波导路通常是在下敷层的正面将作为 光通路的芯形成为规定的图案，以覆盖该芯的状态形成上敷层 而构成的。这样的光波导路通常形成在金属制基板等的基板正 面，与该基板一起作为光波导路来被制造。

制造这样的光波导路的以往的制造方法如下：首先，如图 4的(a)所示，在基板10的正面形成下敷层2。接着，如图4的 (b)所示，在该下敷层2的正面涂敷芯形成用的感光性树脂， 形成感光性树脂层3A。接着，隔着形成有与芯的图案相对应的 开口图案的曝光掩模M对上述感光性树脂层3A照射照射线L， 使该照射线L通过上述开口图案的开口到达上述感光性树脂层 3A，对该感光性树脂层3A的部分进行曝光。上述照射线L与上 述感光性树脂层3A垂直地对该感光性树脂层3A进行照射，利用 该照射在曝光部分进行光反应，进行固化。然后，通过使用显 影液进行显影，如图4的(c)所示，使未曝光部分溶解而将其 去除，残留的曝光部分形成规定图案的芯3。通常该芯3的截面 形状形成四边形状。之后，如图4的(d)所示，覆盖该芯3地在 上述下敷层2的正面形成上敷层4。这样，在上述基板10的正面 形成光波导路W(例如参照专利文献1)。

专利文献1：日本特开2004-341454号公报

可是，在这样的以往的方法中，如图5的(a)、(b)所示， 根据情况有时芯30的侧面31形成为粗糙面。而且，在具有这样 的芯30的光波导路中，产生在芯30内传播的光的传播损失大这 样的问题。另外，图5的(b)是根据用电子显微镜将以图5的(a) 的圆圈部C圈起来的芯30放大700倍的照片而画成的立体图。这 样，通过用电子显微镜放大700倍，能够确认芯30的侧面31形成 为粗糙面。

因此，本发明人为了研究芯30的侧面31形成为粗糙面的原 因，进行了反复的研究。在该过程中，如图5的(a)所示，弄 清了上述芯30的侧面31的粗糙面化是在作为上述基板10[参照 图4的(a)～(d)]使用由以聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET) 为主成分的材料构成的基板(以下称为“PET制基板”)1的情 况下而产生的。然后，进一步反复研究的结果可知，如图6所示， 在上述PET制基板1中含有润滑剂1a等的添加成分，上述芯形成 工序中曝光所使用的照射线L与该润滑剂1a等的添加成分接触 而产生反射，该照射线L的前进路径被打乱。此外，还可知几 乎所有的该照射线L到达上述PET制基板1的底面(与背面对应 的面)。即，如图6所示，在上述芯形成工序中，用于曝光的照 射线L透过了芯形成用感光性树脂层3A和下敷层2后，入射到上 述PET制基板1，在该PET制基板1内与上述润滑剂1a等接触而前 进路径被打乱，倾斜地到达上述PET制基板1的底面。在此，因 为上述PET制基板1的背面通常与载置PET制基板1的载置台等 的、不透过照射线L的载置面接触，所以到达上述PET制基板1 的底面的照射线L不会自上述PET制基板1的背面射出而是在 PET制基板1的底面进行反射。然后，如上所述，因为照射线L 倾斜地到达上述PET制基板1的底面，所以在该底面进行反射的 照射线L在该底面沿斜向上方向反射。之后，该反射的照射线L 在上述PET制基板1内接触到上述润滑剂1a等而前进路径被进 一步打乱，自该PET制基板1的正面沿斜上方射出。而且，该沿 斜上方射出的照射线L自下方沿斜向上的方向透过上述下敷层 2，在芯形成用感光性树脂层3A内的芯形成区域S中，自斜向下 方对芯30的形成图案的边界面(成为侧面31的面)进行曝光。 该自斜向下方的曝光因为是如上所述通过由上述PET制基板1 中含有润滑剂1a等而造成的漫反射而进行的，所以不均匀。因 此，判断出是因自该斜向下方进行曝光的原因而造成在芯30的 成为侧面31的面上不需要的光反应不均匀地进行，芯30的侧面 31形成为粗糙面。即，在芯30的成为侧面31的面上，由于上述 照射线L的漫反射，曝光度的大小不同，或是未曝光部分与曝 光部分产生混杂。然后，在后面的显影工序中，上述芯30的成 为侧面31的面的、曝光度小的部分、未曝光的部分被溶解而被 去除，曝光度大的部分、曝光部分残留下来。因此，芯30的侧 面31形成粗糙面。

发明内容