[发明专利]光酸产生剂、共聚物、抗蚀剂组合物及使用所述抗蚀剂组合物形成图形的方法无效
| 申请号： | 200910171536.9 | 申请日： | 2009-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN101750888A | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | 吴贞薰;金相珍;金真湖;申大铉 | 申请（专利权）人： | 韩国锦湖石油化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/039;G03F7/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 产生 共聚物 抗蚀剂 组合 使用 述抗蚀剂 形成 图形 方法 | ||
1.一种由化学式1表示的光酸产生剂，
[化学式1]
其中，R1是一个氢原子、三氟甲基、C1-C5烷基或C1-C5烷氧基，R2和R3分别是线性或支化型C1-C20烷基、芳基、线性或支化型C1-C20全氟化烷基、苄基或C6-C20芳基，且A-是由化学式2表示的化合物，
[化学式2]
其中，X1是单环或多环的C3-C20烃基、苄基、C6-C20芳基、C1-C10烷基、C1-C10烷氧基、C1-C10羟烷基或氰基，所述单环或多环的C3-C20烃基中的至少一个氢原子被或不被醚基、酯基、羰基、缩醛基、腈基、氰基、羟基、羧基或醛基所取代，R是C1-C10烷基、C1-C10烷氧基、氮原子、硫原子或氧原子，且m是0到2的正整数。
2.如权利要求1所述的光酸产生剂，其中，所述光酸产生剂通过由化学式3表示的化合物和由化学式4表示的盐的合成反应来获取，
[化学式3]
其中，R1是一个氢原子、三氟甲基、C1-C5烷基或C1-C5烷氧基；和
[化学式4]
其中，R2和R3分别是线性或支化型C1-C20烷基、芳基、线性或支化型C1-C20全氟化烷基、苄基或C6-C20芳基，且A-是由化学式2表示的化合物。
3.一种用于化学放大型抗蚀剂组合物的共聚物，其中，由下列化学式1表示的光酸产生剂与所述共聚物的主链有联系，
[化学式1]
其中，R1是一个氢原子、三氟甲基、C1-C5烷基或C1-C 5烷氧基，R2和R3分别是线性或支化型C1-C20烷基、芳基、线性或支化型C1-C20全氟化烷基、苄基或C6-C20芳基，且A-是由化学式2表示的化合物，
[化学式2]
其中，X1是单环或多环的C3-C20烃基、苄基、C6-C20芳基、C1-C10烷基、C1-C10烷氧基、C1-C10羟烷基或氰基，所述单环或多环的C3-C20烃基中的至少一个氢原子被或不被醚基、酯基、羰基、缩醛基、腈基、氰基、羟基、羧基或醛基所取代，R是C1-C10烷基、C1-C10烷氧基、氮原子、硫原子或氧原子，且m是0到2的正整数。
4.如权利要求3所述的共聚物，其中，所述共聚物包括含有所述光酸产生剂的重复单元。
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