[发明专利]具有激光烧蚀槽的指叉背接触太阳能硅电池及其制造方法有效
申请号: | 200910169600.X | 申请日: | 2009-09-08 |
公开(公告)号: | CN101673776A | 公开(公告)日: | 2010-03-17 |
发明(设计)人: | K·中屋;徐保民 | 申请(专利权)人: | 帕洛阿尔托研究中心公司 |
主分类号: | H01L31/042 | 分类号: | H01L31/042;H01L31/18 |
代理公司: | 北京北翔知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐 燕;郑建晖 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 激光 烧蚀槽 指叉背 接触 太阳能 电池 及其 制造 方法 | ||
1.一种制造指叉背接触太阳能电池的方法,所述方法包括:
将第一掺杂剂扩散到半导体衬底的后表面,以使得所述衬底的被 隔开的第一扩散区和第二扩散区具有第一掺杂浓度且从所述后表面延 伸第一深度进入所述衬底,且被具有第二掺杂浓度且从所述后表面延 伸第二深度进入所述衬底的第三扩散区隔开,其中将所述第一掺杂剂 扩散包括:
将含硼材料的被间隔开的块沉积到所述衬底的后表面上、在 所述第一扩散区和所述第二扩散区上;以及
加热所述衬底,以使得所述硼的第一部分穿过所述后表面扩 散到所述第一扩散区和所述第二扩散区中,而所述硼的第二部分在所 述后表面上、在所述第一扩散区和所述第二扩散区上形成硼硅酸盐玻 璃;
以及
将第二掺杂剂扩散到所述第三扩散区中,以使得所述第一掺杂剂 阻止所述第二掺杂剂扩散到所述第一扩散区和所述第二扩散区中,
所述方法还包括形成进入所述衬底的后表面的多个槽,以使得所 述第一扩散区与所述第三扩散区被第一槽隔开,而所述第二扩散区与 所述第三扩散区被第二槽隔开,
其中将第二掺杂剂扩散到所述第三扩散区中包括:
在形成所述硼硅酸盐玻璃后,将所述衬底置于包含POCl3的炉中, 所述炉处于一温度,该温度被选择为使得磷被扩散到所述第三扩散区 中且所述硼硅酸盐玻璃阻止所述磷扩散到所述第一扩散区和所述第二 扩散区中。
2.根据权利要求1所述的方法,其中形成所述多个槽包括激光烧 蚀所述衬底的后表面。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的