[发明专利]物体表面上的颗粒检测

权利要求书

1.一种用于检验具有一厚度的物体的表面的系统，包括：

至少一个照射源，用于在相对于所述物体的照射路径中提供光学照 射束以照射所述物体表面；

光学元件，具有对应于小于所述物体厚度的1/5的焦深的数值孔径， 布置在相对于所述照射路径的检测路径中，用于拦截来自所述被照射的物 体表面的散射光并且将所述被照射的物体表面的全场的真实图像进行投 影；和

图像传感器，相对于所述光学元件和所述物体布置，用于接收所述 被投影的真实图像和对所述被照射的物体表面的全场进行采样以获取真 实的两维图像；和

其中，位于所述物体表面上的颗粒在所述真实的两维图像中是可检 测的。

2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述至少一个照射源被配置， 使得所述光学照射束被以倾斜的角度提供至所述物体表面。

3.根据权利要求1所述的系统，其中，所述至少一个照射源被配置， 使得所述光学照射束被提供作为垂直的光，并且以与所述物体表面成倾斜 的角度放置所述图像传感器。

4.根据权利要求1所述的系统，其中，所述光学元件和所述图像传 感器形成照相机，两个或多个照相机被放置，使得从不同角度面对所述物 体表面，且由所述两个或多个照相机获得的所述真实图像允许所述物体表 面的视差成像。

5.根据权利要求1所述的系统，其中，所述至少一个照射源、所述 光学元件以及所述图像传感器集成到光刻系统中，用于使得所述系统能够 执行带有薄膜的掩模版的原位检验。

6.一种用于检验掩模版及其薄膜的表面的原位掩模版污染物检测系 统，所述掩模版和所述薄膜分别具有第一厚度和第二厚度，包括：

第一照射源，用于在相对于所述掩模版的第一照射路径中提供掩模 版的光学照射束以照射所述掩模版的表面；

第一光学元件，具有对应于小于所述掩模版厚度的1/5的焦深的数值 孔径，布置在相对于所述第一照射路径的第一检测路径中，用于拦截来自 所述被照射的掩模版表面的第一散射光并且将所述被照射的掩模版表面 的全场的真实掩模版图像进行投影；

第一图像传感器，相对于所述第一光学元件和所述掩模版布置，用 于接收所述被投影的真实掩模版图像和对所述被照射的掩模板表面的全 场进行采样以获取真实的两维掩模版图像，其中，位于所述掩模版表面上 的颗粒在所述真实的两维掩模版图像中是可检测的；

第二照射源，用于在相对于所述薄膜的第二照射路径中提供薄膜的 光学照射束以照射与所述掩模版相关联的薄膜的表面；

第二光学元件，具有对应于小于所述薄膜厚度的1/5的焦深的数值孔 径，布置在相对于所述第二照射路径的第二检测路径中，用于拦截来自被 照射的薄膜表面的第二散射光并且将所述被照射的薄膜表面的全场的真 实薄膜图像进行投影；和

第二图像传感器，相对于所述第二光学元件和所述薄膜布置，用于 接收所述被投影的真实薄膜图像和对所述被照射的薄膜表面的全场进行 采样以获取真实的两维薄膜图像，其中，位于所述薄膜表面上的颗粒在所 述真实的两维薄膜图像中是可检测的。

7.一种光刻系统，包括：

颗粒检测系统，具有：

第一照射源，用于在相对于具有一厚度的物体的照射路径中提 供光学照射束以照射物体表面；

光学元件，具有对应于小于所述物体厚度的1/5的焦深的数值孔 径，布置在相对于所述照射路径的检测路径中，用于拦截来自所述被照射 的物体表面的散射光并且将所述被照射的物体表面的全场的真实图像进 行投影；和

图像传感器，相对于所述光学元件和所述物体布置，用于接收 所述被投影的真实图像和对所述被照射的物体表面的全场进行采样以获 取真实的两维图像，

其中，位于所述物体表面上的颗粒在所述真实的两维图像中是 可检测的；

第二照射源，配置以提供光束；和

投影系统，配置以将来自掩模版的图案化的光束投影到衬底上。