[发明专利]显示装置的修正方法及其装置有效

专利信息
申请号: 200910161644.8 申请日: 2009-07-24
公开(公告)号: CN101667527A 公开(公告)日: 2010-03-10
发明(设计)人: 新井武;中须信昭;枝村理夫;大录范行 申请(专利权)人: 株式会社日立显示器
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;C23C16/04;C23C16/50;H01J37/32
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王永刚
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 显示装置 修正 方法 及其 装置
【权利要求书】:

1.一种显示装置的修正装置,对在衬底的表面上形成了具有图 案缺陷的电子电路图案的显示装置的上述图案缺陷进行修正,其特征 在于:包括通过对上述图案缺陷的区域局部地照射等离子体而修正上 述图案缺陷的等离子体照射单元,

上述等离子体照射单元包括:

在其内部生成等离子体的等离子体生成用细管,

向上述等离子体生成用细管供给第一气体的第一气体供给部,

具有开口部,从该开口部的对面侧插入上述等离子体生成用细管 的一端的等离子体反应部,以及

向上述等离子体反应部内供给第二气体的第二气体供给部。

2.如权利要求1所述的显示装置的修正装置,其特征在于:

在上述开口部配置有保持并能移动上述显示装置的工作台机构, 且

上述显示装置的修正装置包括从检查装置接收上述缺陷图案的 信息,辨认上述缺陷图案的缺陷并将其分类的观察机构。

3.如权利要求2所述的显示装置的修正装置,其特征在于:

根据从上述第一气体供给部供给的气体的物理量,分解从第二气 体供给部供给的反应性气体。

4.如权利要求1所述的显示装置的修正装置,其特征在于:

在上述等离子体反应部中具有把等离子体喷流的直径变细的掩 模,

上述掩模配置在上述等离子体生成用细管与衬底之间,第二气体 供给部配置在上述掩模与衬底之间。

5.如权利要求4所述的显示装置的修正装置,其特征在于:

上述掩模是绝缘体。

6.如权利要求1所述的显示装置的修正装置,其特征在于:

根据从上述第一气体供给部供给的气体的物理量,控制被加工物 的温度。

7.如权利要求3、6中任一项所述的显示装置的修正装置,其特征 在于:

上述气体的物理量是流量、流速、气体种类、电离度中的至少一 种。

8.一种显示装置的修正方法,对在衬底的表面上形成了具有图 案缺陷的电子电路图案的显示装置的上述图案缺陷进行修正,其特征 在于:

向等离子体生成用细管供给第一气体而生成等离子体,

从插入等离子体反应部内的上述等离子体生成用细管的一端射 出所生成的等离子体,

向上述等离子体反应部内供给第二气体,

利用上述射出的等离子体分解反应性的上述第二气体,对配置在 上述等离子体反应部的开口部侧的显示装置的上述图案缺陷进行修 正。

9.一种显示装置的修正方法,其特征在于:

通过对从等离子体生成用细管的一个端部向上述等离子体生成 用细管的内部供给的惰性气体施加高频电力,产生等离子体;

通过在上述等离子体生成用细管的另一个端部与衬底之间配置 的掩模,把等离子体喷流微细化;

根据从第一气体供给部供给的气体的物理量,分解从第二气体供 给部供给的反应性气体,对上述衬底上的电子电路图案的图案缺陷进 行修正。

10.如权利要求9所述的显示装置的修正方法,其特征在于:

上述气体的物理量是流量、流速、气体种类、电离度中的至少一 种。

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