[发明专利]研磨装置及其定位方法

权利要求书

1.一种研磨装置，该研磨装置包括：

下盘；

上盘，该上盘对应设置于该下盘的上方；

转动检测模块，该转动检测模块对应该上盘设置，以侦测该上盘的位置；以及

转动动力源，该转动动力源与该下盘电性连接，以根据该上盘的位置控制该下盘的转动；当转动检测模块侦测到上盘位于转动检测位置时，转动动力源控制下盘停止转动，使得上盘对应地停止转动，并定位于预定停止转动位置。

2.如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，该转动检测模块可移动至一收纳位置，以避免研磨粉尘附着于该转动检测模块。

3.如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，该上盘具有孔洞，该孔洞位于该上盘的上部，该研磨装置还包括：

插销，该插销对应该孔洞设置，当该上盘上升至一抬起位置，该插销插入该孔洞内，以使该上盘停止转动并定位于一取片位置。

4.如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，该研磨装置还包括：

第一减速检测模块，其对应该上盘设置，以侦测该上盘的位置，其中该转动动力源根据该上盘的位置控制该下盘的转动速度。

5.如权利要求3所述的研磨装置，其特征在于，该插销具有第一端及第二端，该第一端的截面实质上小于该第二端的截面，且该第一端面向该孔洞。

6.如权利要求4所述的研磨装置，其特征在于，该研磨装置还包括：

第二减速检测模块，其对应该上盘设置，以侦测该上盘的位置，其中该转动动力源根据该第二减速检测模块侦测的该上盘位置控制该下盘的转动速度。

7.一种研磨装置的定位方法，其中该研磨装置包括上盘及下盘，该定位方法包括：

(a)驱动该下盘转动，以使该上盘相对于该下盘转动；

(b)侦测该上盘的位置是否位于一转动检测位置；以及

(c)若该上盘的位置位于该转动检测位置，则控制该下盘停止转动，使得该上盘对应地停止转动，并定位于一预定停止转动位置。

8.如权利要求7所述的定位方法，其特征在于，该上盘具有孔洞，于该步骤(c)之后，该定位方法还包括：

升起该上盘至一抬起位置，直到插销插入该孔洞内，以使该上盘定位于一取片位置。

9.如权利要求7所述的定位方法，其特征在于，于该步骤(b)之前，该定位方法还包括：

侦测该上盘的位置是否位于一第一减速检测位置；及

若该上盘的位置位于该第一减速检测位置，则控制该下盘减速，使得该上盘对应地减速。