[发明专利]用于检测图案化基板的缺陷的方法及系统有效
| 申请号: | 200910150940.8 | 申请日: | 2009-06-22 |
| 公开(公告)号: | CN101819165A | 公开(公告)日: | 2010-09-01 |
| 发明(设计)人: | 史伟杰;李惠芬;林晓峰;郭峰;郭晓锋 | 申请(专利权)人: | 圣戈本玻璃法国公司 |
| 主分类号: | G01N21/956 | 分类号: | G01N21/956;G01N21/896 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 邹姗姗 |
| 地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 检测 图案 化基板 缺陷 方法 系统 | ||
1.一种用于检测透明或半透明的图案化或结构化基板的局部缺 陷的系统,包括:
至少一个成像元件,用于对所述基板进行扫描;
第一光源,其靠近所述基板放置,用于向所述基板照射漫射光, 该第一光源与所述至少一个成像元件构成关于所述基板的第一检测 通道;
传送装置,用于使得所述基板与所述至少一个成像元件和所述第 一光源之间产生相对移动;
一个或多个第三光源,其与所述第一光源位于所述基板的同一 侧,该一个或多个第三光源与所述至少一个成像元件构成关于所述基 板的不同于所述第一检测通道的至少一个第三检测通道;
设置在所述一个或多个第三光源中的每一个与所述基板之间的 第一偏振元件,所述第三光源发出的光经该第一偏振元件后成为沿一 起偏方向的线偏振光;以及
设置在所述至少一个成像元件中的每一个与所述基板之间的第 二偏振元件,该第二偏振元件的偏振方向与所述起偏方向垂直。
2.根据权利要求1所述的系统,其中,第一光源以对所述基板 提供基本上均匀的漫射照明的方式相对于该基板放置。
3.根据权利要求1所述的系统,其中,所述第一光源包括一个 或多个子光源,所述一个或多个子光源沿基板的传送方向对齐或彼此 错开,并分别与所述至少一个成像元件中的一个或多个对准。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的系统,还包括:
一个或多个第二光源,用于相对于所述至少一个成像元件中的一 个或多个向所述基板提供不同于所述第一光源的模式的照明,该一个 或多个第二光源与所述至少一个成像元件构成关于所述基板的不同 于所述第一检测通道的至少一个第二检测通道。
5.根据权利要求4所述的系统,还包括:
控制装置,用于控制所述至少一个成像元件以及所述第一光源和 所述一个或多个第二光源的操作,使得第一光源和第二光源不同时接 通,并使得所述至少一个成像元件中的至少一个在所述基板被照明时 对该基板进行扫描。
6.根据权利要求5所述的系统,其中,
所述控制装置还将所述基板每移动距离的时长计算为一个工 作周期,并控制所述至少一个成像元件中每一个的曝光时间以及所述 第一光源和所述一个或多个第二光源中每一个的照明时间使得在该 工作周期内完成对所述基板的所有通道的检测,其中P为所述至少一 个成像元件的像素宽度,而M为所述至少一个成像元件的成像倍率。
7.根据权利要求5所述的系统,所述一个或多个第二光源包括 一个准直照明光源,其与所述第一光源分别位于所述基板的两侧,其 中,所述准直照明光源相对于所述至少一个成像元件中的至少一个, 对所述基板提供暗场反射照明,并且,
所述控制装置进行控制,使得所述第一光源与所述准直照明光源 不同时接通,并使得所述至少一个成像元件中的至少一个在第一光源 或准直照明光源接通时对所述基板进行扫描。
8.根据权利要求1所述的系统,还包括:
控制装置,用于控制所述至少一个成像元件以及所述第一光源和 所述一个或多个第三光源的操作,使得第一光源和第三光源不同时接 通,并使得所述至少一个成像元件中的至少一个在所述基板被照明时 对该基板进行扫描。
9.根据权利要求5所述的系统,还包括:
一个或多个第三光源,其与所述第一光源位于所述基板的同一 侧,该一个或多个第三光源与所述至少一个成像元件构成关于所述基 板的不同于所述第一检测通道的至少一个第三检测通道;
设置在所述一个或多个第三光源中的每一个与所述基板之间的 第一偏振元件,所述第三光源发出的光经该第一偏振元件后成为沿一 起偏方向的线偏振光;以及
设置在所述至少一个成像元件中的每一个与所述基板之间的第 二偏振元件,该第二偏振元件的偏振方向与所述起偏方向垂直,其中,
所述控制装置进行控制,使得所述第一光源、第二光源以及第三 光源三者均不同时接通,并使得所述至少一个成像元件中的至少一个 在所述基板被照明时进行扫描。
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