[发明专利]一种正向投影屏及其制造方法无效
| 申请号: | 200910149608.X | 申请日: | 2009-06-08 |
| 公开(公告)号: | CN101907821A | 公开(公告)日: | 2010-12-08 |
| 发明(设计)人: | 陈波 | 申请(专利权)人: | 陈波 |
| 主分类号: | G03B21/26 | 分类号: | G03B21/26;G02B3/00;G02B3/02;G03F1/00 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 518054 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 正向 投影 及其 制造 方法 | ||
1.一种正向投影屏,由非球面微透镜列阵组成,含有二个以上微透镜单元,其特征在于:
a.所说的所有微透镜单元在一个方向上具有相同的光焦度。
b.所说的所有微透镜单元在另一垂直的方向上具有相同的光焦度。
c.所说的所有微透镜单元表面浮雕结构不同,其反射形成的观察带(108)重合。
2.权利要求1所说的一种正向投影屏,所说的微透镜单元在一个方向上的光焦度大于另一方向的光焦度。
3.权利要求1所说的一种正向投影屏,所说的微透镜为凹面镜。
4.权利要求1所说的一种正向投影屏,所说的微透镜为凸面镜。
5.权利要求1所说的一种正向投影屏,所说的微透镜列阵其组成材料具有宽带高反射特性,以反射光线。
6.权利要求1所说的一种正向投影屏,还可以镀有宽带高反射膜,共形附着在所说的非球面微透镜列阵上,以反射光线。
7.权利要求4所说的一种正向投影屏,所说的高反射膜是铝膜或多层介质膜。
8.权利要求1所说的一种正向投影屏,所说的微透镜列阵添充率为1。
9.权利要求1所说的一种正向投影屏,所说的微透镜单元为方形或长方形。
10.权利要求1所说的一种正向投影屏,还可以有支撑材料以支撑所说的微透镜列阵,微透镜列阵层附着在支撑材料上。
11.权利要求10所说的一种正向投影屏,所说的支撑材料是可弯曲的形状记忆材料。
12.一种非球面微透镜列阵的制作方法,步骤包括
a.将光敏材料涂敷在基底上,形成光刻胶版。
b.第一次曝光:用第一个周期性二元图案在光刻胶版上曝光,曝光过程中,二元图案与光刻胶版之间相对移动至少一个周期,移动方向与第一个周期性二元图案的周期方向一致。
c.第二次曝光:用第二个周期性二元图案在光刻胶版上曝光,曝光过程中,二元图案与光刻胶版之间相对移动至少一个周期,移动方向与第二个周期性二元图案的周期方向一致。第二次曝光的移动方向在光刻胶版上与第一次曝光的移动方向垂直。
d.在显影液中刻蚀,形成所说的非球面微透镜列阵。
13.权利要求12所说的一种非球面微透镜列阵的制作方法,所说的周期性二元图案由二元掩模与光刻胶版紧密贴合,均匀光照透过二元掩模形成。
14.权利要求12所说的一种非球面微透镜列阵的制作方法,所说的周期性二元图案由光学投影系统在所说的光刻胶版上投影形成。
15.权利要求12所说的一种非球面微透镜列阵的制作方法,所说的光敏材料是正性或负性光刻胶。
16.权利要求12所说的一种非球面微透镜列阵的制作方法,所说的周期性二元图案在一个方向上有周期性,在另一垂直方向上没有周期性。
17.权利要求12所说的一种非球面微透镜列阵的制作方法,所形成的非球面微透镜列阵为原始模版,可用表面浮雕复制技术复制出工作模版或最终产品。
18.权利要求17所说的一种非球面微透镜列阵的制作方法,所说的表面浮雕复制技术为电镀技术。
19.权利要求17所说的一种非球面微透镜列阵的制作方法,所说的表面浮雕复制技术为树脂固化技术。
20.权利要求17所说的一种非球面微透镜列阵的制作方法,所说的工作模版可用于模压成型或树脂固化,以批量生产浮雕型微透镜列阵的最终产品。
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