[发明专利]用于光电化学分解水制氢的光阳极及其制备方法

权利要求书

1.一种制备用于光电化学分解水制氢的光阳极的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

(a)对导电玻璃(1)进行溅射镀膜1小时至4小时，然后将丝网贴在溅射后的所述导电玻璃上，其后继续进行溅射镀膜1小时至3小时，以在所述导电玻璃上形成具有凸起(3)的溅射层(2)；和

(b)将步骤(a)中处理的导电玻璃浸入到提拉用溶液中进行提拉成膜，然后将其在60℃至150℃干燥10分钟至30分钟，之后在300至600℃热处理2小时至3小时，以形成Ni-Fe氧化物膜层(4)。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述提拉用溶液为浓度为0.05摩/升至1摩/升的镍盐、浓度为0.05摩/升至1摩/升的铁盐以及浓度为0.2摩/升至2摩/升的乙酰丙酮的有机溶剂溶液。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：所述镍盐为Ni(NO₃)₂或NiSO₄，所述铁盐为Fe(NO₃)₃或Fe₂(SO₄)₃，并且所述有机溶剂为无水乙醇或无水甲醇。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述导电玻璃(1)为铟锡氧化物或氟锡氧化物。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述溅射层(2)为半导体光催化材料溅射层。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于：所述半导体催化材料为TiO₂、WO₃、TaON、Fe₂O₃、SrTiO₃、ZnO、CuO、CdS、碳掺杂TiO₂、氮掺杂TiO₂或硫掺杂TiO₂。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述溅射层(2)的厚度为1微米至4微米。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述凸起(3)的高度为1微米至3微米，直径为2微米至10微米，密度为1×10⁶-2.5×10⁷个/cm²。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述Ni-Fe氧化物膜层(4)的厚度为10纳米至1微米。