[发明专利]纳米点状材料的形成方法有效
申请号: | 200910147009.4 | 申请日: | 2009-06-04 |
公开(公告)号: | CN101908388A | 公开(公告)日: | 2010-12-08 |
发明(设计)人: | 卢俊安;林鸿钦;邱国展;黄思博 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
主分类号: | H01B1/00 | 分类号: | H01B1/00;B22F9/30 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纳米 材料 形成 方法 | ||
1.一种纳米点状材料的形成方法,包括:
提供亚微米材料;
提供金属有机化合物;
将该亚微米材料与该金属有机化合物混合于溶剂中;
使该金属有机化合物热裂解还原,形成多个纳米点状材料于该亚微米材料上,其中所述纳米点状材料与该亚微米材料为异质材料;以及
将所述纳米点状材料融熔,使多个邻近的该亚微米材料融接在一起,形成连续界面。
2.如权利要求1所述的纳米点状材料的形成方法,其中使该金属有机化合物热裂解还原的温度小于300℃。
3.如权利要求1所述的纳米点状材料的形成方法,其中该金属有机化合物为(RCOO)yM(y),且R为直链或支链的CnH2n+1,n为5~20的整数;M为金属或硅,包括铜、银、金、铝、钛、锌、镍、锡、铁、铟、铂或钯;y为金属的价数。
4.如权利要求1所述的纳米点状材料的形成方法,其中所述纳米点状材料的尺寸小于100nm,且包括金属或金属氧化物。
5.如权利要求4所述的纳米点状材料的形成方法,其中该金属包括铜、银、金、铝、钛、锌、镍、锡、铁、铟、铂或钯。
6.如权利要求4所述的纳米点状材料的形成方法,其中该金属氧化物包括氧化铜、氧化银、氧化铝、氧化钛、氧化镍、氧化铁、氧化锌、氧化锡、氧化铟锡或氧化硅。
7.如权利要求1所述的纳米点状材料的形成方法,其中该亚微米材料为粒径小于1μm的粉体,且包括金属、氧化物、碳纳米管、金属纳米管或氧化物纳米管。
8.如权利要求7所述的纳米点状材料的形成方法,其中该金属包括铜、镍、铝、银或金。
9.如权利要求7所述的纳米点状材料的形成方法,其中该氧化物包括氧化锌、氧化铝、氧化镁、氧化铍、氧化锆、过渡金属氧化物或多元金属系统氧化物。
10.如权利要求7所述的纳米点状材料的形成方法,其中该碳纳米管包括单壁碳纳米管或多壁碳纳米管。
11.如权利要求7所述的纳米点状材料的形成方法,其中该金属纳米管包括银、金、铜、锌或铝的纳米管。
12.如权利要求7所述的纳米点状材料的形成方法,其中该氧化物纳米管包括氧化锌、氧化铝、氧化镁、氧化铍、氧化锆、过渡金属氧化物及多元金属系统氧化物的纳米管。
13.如权利要求1所述的纳米点状材料的形成方法,其中所述纳米点状材料呈不连续点状分布于该亚微米材料的表面上。
14.如权利要求1所述的纳米点状材料的形成方法,其中该亚微米材料为多个纳米管,且所述纳米点状材料呈不连续点状分布于所述纳米管的表面及所述纳米管之间。
15.如权利要求1所述的纳米点状材料的形成方法,其中所述纳米点状材料系融接或吸附于该亚微米材料上。
16.如权利要求1所述的纳米点状材料的形成方法,其中所述纳米点状材料融熔的温度低于250℃。
17.如权利要求1所述的纳米点状材料的形成方法,其中所述纳米点状材料为金属,且该亚微米材料为具有介电特性的氧化物,所述纳米点状材料系作为电极,以形成纳米串联电容。
18.如权利要求1所述的纳米点状材料的形成方法,其中所述纳米点状材料为金属,且该亚微米材料为具有半导体特性的氧化物,以形成电阻器。
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