[发明专利]防电磁波过滤器及其制造方法及包含该过滤器的显示器

说明书

技术领域

本发明涉及一种适合在等离子体显示板等显示器上使用的防电磁波过滤器及其制造方法和具有该过滤器的显示器，该防电磁波过滤器可提高图案质量及印刷性，并提高连续工艺效率，尤其可以使等离子体显示装置的光学特性优秀，并且即使其印刷面暴露于外部气体环境，也可具有较好的耐湿性。

背景技术

最近人们开发出各种各样的显示器。例如开发出等离子体显示器(PDP)、液晶显示器(LCD)及有机发光显示器(OLED)等。这些显示器由于其厚度薄，重量轻，广泛地被应用到需要显示图像的诸多产品上。

另一方面，显示器中的各种电子元件释放出EMI(电磁干扰)，而EMI会导致显示器的错误运转，而且对人体有害。因此，为了屏蔽EMI，显示器上通常贴附防电磁波过滤器。

所述防电磁波过滤器不仅可以屏蔽电磁波，还可补偿色彩、减少外界光反射，并可通过屏蔽近红外线来防止遥控器的错误运转，且从外部冲击中保护模块，而且在整个玻璃损坏时防止玻璃飞散。

现有防电磁波过滤器的制造方法通常如图1a所示那样，采用铜基板，用常规方法经过层压、曝光及显影、蚀刻及剥离等工序来形成筛网状防EMI图案。通过如上方法制备的EMI过滤器在玻璃基板上具有加压粘接层及PET薄膜，并在该基板上部设有筛网状铜图案，并具有近红外线(下称NIR)屏蔽膜、色补偿膜及抗反射膜(下称AR)，从而通常被构成为以底基板为基准多个功能层和筛网状铜图案的两面叠层的结构。用上述方法形成的筛网状铜图案可具有如图1b所示的形状。此时，根据需要，光学功能层的位置可以与图中所示位置不同。例如，NIR膜、色补偿膜和AR膜可以在包含PET薄膜的基板中设置在PET薄膜两面。然而，筛网状铜图案等现有薄膜筛网类型在过滤器的制造时，需做两面叠层，并为了满足光学特性，另需进行透明化处理，因此其工艺复杂。

另外在采用了胶版印刷工程的防电磁波过滤器的制造方法中，在玻璃基板的空气面上印刷导电膏并将其烧制后，在印刷层的相反面上设置抗反射层、色补偿及近红外线屏蔽层等，并进行透明化处理后，其最终产品中过滤器的整个印刷层(Air面)可能会暴露于外部气体环境。此时，产品的耐湿性较差，会导致白浊现象而使玻璃基板变得浑浊，从而降低产品质量及光学特性。因此，为了保护印刷层，上述方法需要把功能性薄膜层叠在印刷层的两面上。而这种两面叠层的方法会导致工艺复杂。

发明内容

鉴于上述问题，本发明的目的是提供一种防电磁波过滤器及其制造方法。本发明采用胶版印刷工程，直接在透明强化玻璃基板的锡面上形成电磁波屏蔽层，并于其相反面即在空气面上形成单面的功能性薄膜，从而使显示装置具有优秀的光学特性，并具有耐湿性。

本发明的另一目的是提供一种包含所述防电磁波过滤器的显示器。

为了实现上述目的，本发明采用以下技术方案。本发明的防电磁波过滤器包括：透明强化玻璃基板，其一面具有锡分布量相对较多的锡面，另一面具有同所述锡面相比锡分布量相对较少的空气面；及电磁波屏蔽件，其以筛网状形成在所述透明强化玻璃基板的锡面上。

所述透明强化玻璃基板是通过把由浮法(float)工艺制造的板玻璃加以强化而制造的。在本发明中，所述强化玻璃基板被分为锡面和空气面，并被供于印刷。在所述透明强化玻璃基板中印刷面的相反面，即空气面上可进一步依次设置有色补偿及近红外线屏蔽层和抗反射层。即所述色补偿及近红外线屏蔽层可在下部具有PET等薄膜的玻璃基板中，以薄膜为中心设置在该薄膜的两面，或者分别设置在薄膜的某一面后将其叠层使用。

所述色补偿及近红外线屏蔽层可包含针对850-1250nm波长的近红外线具有吸收功能的近红外线屏蔽色素、用于屏蔽氖波长并用于补偿色彩的选择性吸光物质。所述近红外线屏蔽色素可以包含选自镍配合物、酞菁、花青苷、二亚铵(diimonium)化合物及其混合物中的至少一种物质。所述用于屏蔽氖波长并用于补偿色彩的选择性吸光物质可以包含选自偶氮、苯乙烯基、花青苷、蒽醌及四氮杂卟啉(化合物中的至少一种物质。所述色补偿及近红外线屏蔽层可通过把所述近红外线吸收物质和选择性吸光物质与高分子树脂及溶剂混合后，将其涂覆于包含薄膜的玻璃基板等透明基材上而制备。