[发明专利]制造用于纳米压印图案化磁记录盘的母模的方法

权利要求书

1.一种用于制造母模的方法，所述母模用于压印磁记录盘，该方法包括使用具有体周期L₀的嵌段共聚物，且该方法包括：

在具有中心的衬底上形成布置成环形带的径向的条的图案，所述条具有nL₀的圆周向间距，其中n是等于或大于2的整数；及

在图案化的所述衬底上沉积包括具有体周期L₀的嵌段共聚物材料层，由此所述共聚物材料被所述条引导从而自组装成交替的第一和第二共聚物组分的径向的线，每种组分的所述径向的线具有L₀的圆周向间距；

去除所述第一共聚物组分的所述径向的线，留下所述第二共聚物组分的所述径向的线；

在所述第二共聚物组分的所述径向的线之上形成同心环的抗蚀剂图案；

蚀刻所述第二共聚物组分的所述径向的线的被所述抗蚀剂保护的部分；

去除所述抗蚀剂，留下所述第二共聚物组分的柱的图案；

利用所述第二共聚物组分的所述柱作为蚀刻掩模，蚀刻所述衬底；及

去除所述第二共聚物组分的所述柱，留下具有衬底材料构成的柱的图案的衬底。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述共聚物材料是双嵌段共聚物材料。

3.如权利要求所述2的方法，其中所述双嵌段共聚物材料是聚苯乙烯和聚甲基丙烯酸甲酯的共聚物。

4.如权利要求1所述的方法，其中L₀在8nm和25nm之间。

5.如权利要求1所述的方法，其中所述径向的条的在所述环形带的内径处的所述圆周向间距不小于0.9nL₀且所述径向的条的在所述环形带的外径处的所述圆周向间距不大于1.1nL₀。

6.如权利要求1所述的方法，其中所述径向的条具有弓形形状。

7.如权利要求1所述的方法，其中在所述衬底上形成布置成环形带的径向的条的图案包括将所述条形成为多个径向间隔开的环形带。

8.如权利要求1所述的方法，其中所述衬底表面包括氧化物，且其中在所述衬底上形成所述图案包括：

在所述衬底上沉积中性聚合物刷材料层，所述中性聚合物刷材料对于任何共聚物组分没有强亲合性； 

在所述聚合物刷材料层上形成径向棒抗蚀剂图案；

蚀刻所述聚合物刷材料的未被所述抗蚀剂保护的部分从而暴露径向的氧化物条，所述氧化物条具有所述nL₀的圆周向间距；及

去除所述抗蚀剂。

9.如权利要求1所述的方法，其中在所述衬底上形成所述图案包括：

在所述衬底上沉积中性聚合物刷材料层，所述中性聚合物刷材料对于任何共聚物组分没有强亲合性；

在所述聚合物刷材料层上形成抗蚀剂径向棒图案；

在所述径向棒之间的径向间隙中形成一材料，该材料对于所述共聚物组分之一具有首选亲合性；

去除所述抗蚀剂径向棒从而暴露对于所述共聚物组分之一具有首选亲合性的所述材料的径向条，所述径向条具有nL₀的所述圆周向间距。

10.如权利要求1所述的方法，其中在所述衬底上形成所述图案包括形成径向脊，所述脊限定具有nL₀的圆周向宽度的沟槽，且还包括

在沉积所述嵌段共聚物材料层之前，在所述径向脊之间的所述沟槽中的所述衬底上沉积中性聚合物刷材料层，所述中性聚合物刷材料对于任何共聚物组分没有首选亲合性。

11.如权利要求10所述的方法，其中所述脊具有壁，圆周向相邻的脊的所述壁分开(n+0.5)L₀的宽度，所述壁涂覆以0.25L₀厚的聚合物刷材料。

12.如权利要求1所述的方法，其中所述衬底包括衬底基底，所述衬底具有形成在所述基底上的衬底层，其中蚀刻所述衬底包括蚀刻所述衬底层，且其中在去除所述第二共聚物组分的所述柱之后，衬底层材料构成的柱的图案留在所述基底上。

13.如权利要求1所述的方法，其中所述衬底材料构成的柱的同心环的径向间距与所述衬底材料构成的柱的圆周向间距之比大于1。