[发明专利]光刻装置和器件制造方法

权利要求书

1.一种光刻装置，包括：

支撑结构，其构造成可固定图案形成装置，所述图案形成装置构造成可在光束的横截面上施加图案；

衬底台，其构造成可固定衬底；

投影系统，其构造成可将图案化光束投射到衬底的目标部分上；

液体供给系统，其构造成可将浸液提供到所述衬底和所述投影系统之间的空间中，所述液体供给系统包括设置在所述空间的边界上的至少一个浸液入口，

其中所述浸液基本上没有被限制在所述空间中从而所述浸液可以流出所述空间。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括至少一个浸液出口，所述至少一个浸液出口位于所述至少一个浸液入口的径向向外处。

3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述至少一个浸液出口位于所述衬底台上。

4.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述出口悬置在所述衬底台上方。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的装置，其特征在于，所述至少一个浸液入口与所述投影系统是机械式地隔离的。

6.根据权利要求1-4中任一项所述的装置，其特征在于，所述至少一个浸液入口连接到支撑所述衬底台的基座框架和支撑投影系统的投影系统框架中至少之一上。

7.根据权利要求1-4中任一项所述的装置，其特征在于，所述至少一个浸液入口可以沿着所述投影系统的光轴方向自由移动。

8.根据权利要求1-4中任一项所述的装置，其特征在于，所述装置还包括构造成可调节所述至少一个浸液入口相对于所述衬底的高度和倾斜度中至少之一的致动器。

9.一种光刻装置，包括：

支撑结构，其构造成可固定图案形成装置，所述图案形成装置构造成可在所述光束的横截面上施加图案；

衬底台，其构造成可固定衬底；

投影系统，其构造成可将图案化光束投射到所述衬底的目标部分上；

液体供给系统，其构造成可将浸液提供到所述衬底和所述投影系统之间的空间中，所述液体供给系统包括至少一个浸液入口，

其中至少一个浸液出口仅设置为位于所述衬底上和悬置在所述衬底上方中的至少一种情况。

10.一种光刻装置，包括：

支撑结构，其构造成可固定图案形成装置，所述图案形成装置构造成可在所述光束的横截面上施加图案；

衬底台，其构造成可固定衬底；

投影系统，其构造成可将图案化光束投射到所述衬底的目标部分上；

用于供给液体的入口，其在所述图案化光束的投射过程中位于所述衬底的上方；以及

用于容纳液体的出口，其在对衬底的投射过程中位于所述衬底边缘外侧，

其中在所述图案化光束的投射过程中，液体从所述液体入口向外流入所述液体出口。